管式PECVD鍍膜均勻性改善

:文章重點(diǎn)分析了管式PECVD鍍膜均勻性的影響因素。通過(guò)改變PECVD鍍膜過(guò)程中的腔體壓力、鍍膜前的恒溫時(shí)間及金字塔絨面均勻性、石墨舟清洗配方等因素進(jìn)行實(shí)驗(yàn)研究。結(jié)果顯示，適當(dāng)降低PECVD鍍膜壓力，增加鍍膜前恒溫時(shí)間、提升鍍膜前硅片絨面均勻性、降低石墨舟表面粗糙度可以提升PECVD鍍膜均勻性。

（來(lái)源：微信公眾號(hào)“摩爾光伏”）

原標(biāo)題:管式PECVD鍍膜均勻性改善