探討芯片生產廢水處理技術應用

　　環(huán)保：自2000年國家“十五”規(guī)劃的行業(yè)鼓勵性政策出臺，中國芯片產業(yè)掀起一輪前所未有的投資熱潮，全球著名的芯片廠商，如德州儀器、英特爾、AMD等，紛紛在中國建立合資或獨資公司。然而關于芯片生產廢水排放的國家和地方標準尚未出臺。本文結合工程實例，通過調研分析得出最優(yōu)工藝流程，并指出設備選型中應注意的問題。

　　1、廢水分類與來源

　　集成電路芯片制造生產工藝復雜，包括硅片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3·H2O等，廢水的主要污染物分類和來源情況見表1。

　　2、廢水處理工藝

　　根據生產廢水的排放情況及各股廢水的主要污染指標，將生產廢水處理分為：含氨廢水處理系統(tǒng)、含氟廢水處理系統(tǒng)、CMP研磨廢水處理系統(tǒng)及酸堿廢水處理系統(tǒng)。

　　2.1含氨廢水處理系統(tǒng)

　　含氨廢水有兩部分，一部分是濃氨氮廢水，主要含氨氮和雙氧水，氨氮濃度達400～1200mg/L；另一部分是稀氨廢水，主要含氟化氨，氨氮濃度低于100mg/L。

　　2.1.1濃氨廢水吹脫吸收工藝(見圖1)

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