甲烷部分氧化制合成氣中等離子體對催化劑的改性研究
甲烷部分氧化制合成氣中等離子體對催化劑的改性研究【摘要】:甲烷部分氧化制合成氣反應(yīng)(POM)具有能耗低、CO和H2選擇性高、n(H2) / n(CO)的比例適合于合成甲醇及費-托合
【學(xué)位授予單位】:天津大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2004
【分類號】:TE665.3
【目錄】:
- 第一章 前 言8-28
- 1.1 關(guān)于甲烷部分氧化制合成氣反應(yīng)9-10
- 1.2 低溫等離子體10-21
- 1.2.1 等離子體簡介10-12
- 1.2.2 低溫等離子體的形成12-13
- 1.2.3 氣體放電的全伏安特性13-14
- 1.2.4 幾種放電形式簡介14-18
- 1.2.5 介質(zhì)阻擋放電的相關(guān)物理問題18-21
- 1.3 等離子體空間的基本過程21-23
- 1.4 等離子體在催化劑領(lǐng)域的應(yīng)用23-27
- 1.4.1 催化劑的等離子體制備23-27
- 1.4.2 催化劑再生27
- 1.5 本論文工作的提出及主要研究內(nèi)容27-28
- 第二章 實驗部分28-36
- 2.1 實驗原料及規(guī)格28-29
- 2.2 催化劑制備29-30
- 2.2.1 采用等體積浸漬法制備催化劑29
- 2.2.2 等離子體處理裝置29-30
- 2.3 催化劑活性評價30-33
- 2.3.1 實驗流程30-31
- 2.3.2 實驗裝置及儀器介紹31-32
- 2.3.3 催化劑活性評價反應(yīng)條件32
- 2.3.4 分析方法32
- 2.3.5 催化劑活性評價指標(biāo)32-33
- 2.4 催化劑表征33-36
- 2.4.1 比表面的測定33
- 2.4.2 熱失重分析33
- 2.4.3 TPR測定33-34
- 2.4.4 H2的化學(xué)吸附測定34
- 2.4.5 SEM測定34-35
- 2.4.6 XRD測定35
- 2.4.7 X射線光電子能譜(XPS)測定35-36
- 第三章 Ni基催化劑的表面改性36-46
- 3.1 等離子體對Ni基催化劑的改性作用36-37
- 3.2 比表面的測定37-38
- 3.3 SEM分析38-40
- 3.4 XRD分析40
- 3.5 積炭研究40-42
- 3.6 Ni分散度的測定42
- 3.7 XPS測定42-45
- 3.8 小結(jié)45-46
- 第四章 等離子體處理條件對Ni基催化劑催化活性的影響46-53
- 4.1 等離子體處理時間對Ni基催化劑的活性影響46-47
- 4.2 放電功率對催化活性的影響47-48
- 4.3 催化劑顆粒大小對等離子體處理效果的影響48-49
- 4.4 等離子體處理順序?qū)Υ呋钚缘挠绊?/span>49-50
- 4.5 輝光放電中放電氣體對Ni基催化劑催化活性的影響50-52
- 4.6 小結(jié)52-53
- 第五章 等離子體對貴金屬Pt催化劑的改性作用53-64
- 5.1 等離子體處理前后Pt催化劑的活性測定53-55
- 5.2 比表面的測定55
- 5.3 Pt分散度的測定55-56
- 5.4 熱失重分析56
- 5.5 SEM分析56-58
- 5.6 XRD分析58-59
- 5.7 TPR譜圖59-60
- 5.8 XPS測定60-63
- 5.9 小結(jié)63-64
- 第六章 結(jié)論64-65
- 參考文獻(xiàn)65-69
- 發(fā)表論文及科研情況69-70
- 附錄 POM反應(yīng)體系氣體組成色譜圖70-73
- 致謝73
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