摻硼納米非晶硅的太陽(yáng)能電池窗口層應(yīng)用研究
摻硼納米非晶硅的太陽(yáng)能電池窗口層應(yīng)用研究【摘要】:本文通過(guò)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)法沉積p型納米非晶硅薄膜(na-Si∶H),系統(tǒng)地研究了摻雜氣體比(B2H6/SiH
【關(guān)鍵詞】: 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 納米非晶硅 硼摻雜 摻雜比 光學(xué)帶隙
【基金】:國(guó)家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃(No.2007CB613403)(973計(jì)劃) 浙江省科技計(jì)劃項(xiàng)目納米技術(shù)攻關(guān)及示范應(yīng)用專(zhuān)項(xiàng)(No.2006C11118) 高等學(xué)??萍紕?chuàng)新工程重大項(xiàng)目培育資金項(xiàng)目(No.705026)
【分類(lèi)號(hào)】:O484.1
【正文快照】: 鑒于常規(guī)能源(煤、石油、天然氣)供給的有限性和環(huán)境污染的雙重壓力,許多國(guó)家都在致力于開(kāi)發(fā)清潔、無(wú)污染、取之不盡的太陽(yáng)能。太陽(yáng)能電池的成功開(kāi)發(fā),為大規(guī)模利用太陽(yáng)能并最終取代常規(guī)能源奠定了重要的技術(shù)基礎(chǔ)。晶體硅作為太陽(yáng)電池材料一直保持著統(tǒng)治地位[1],但受原材料供
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納米硅薄膜及納米硅薄膜太陽(yáng)電池 趙占霞,崔容強(qiáng),古麗娜,陳鳳翔,儲(chǔ)開(kāi)芹,孟凡英,周之斌
VHF-PECVD制備微晶硅材料及電池 張曉丹,趙穎,朱鋒,魏長(zhǎng)春,高艷濤,孫健,侯國(guó)付,薛俊明,耿新華,熊紹珍
納米硅薄膜界面中的環(huán)形結(jié)構(gòu) 韓偉強(qiáng),魏賽珍,韓高榮,毛祖遂,張建華,丁子上
納米硅(nc-Si:H)晶體硅(c-Si)異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)電池的數(shù)值模擬分析 胡志華,廖顯伯,曾湘波,徐艷月,張世斌,刁宏偉,孔光臨
氫化納米硅薄膜中氫的鍵合特征及其能帶結(jié)構(gòu)分析 于威;張立;王保柱;路萬(wàn)兵;王利偉;傅廣生;
一種納米硅薄膜的傳導(dǎo)機(jī)制 何宇亮,余明斌,胡根友,張薔
PECVD生長(zhǎng)nc-Si∶H膜的沉積機(jī)理分析 彭英才,何宇亮,劉明
摻磷硅薄膜的微結(jié)構(gòu)及光電特性研究 陳永生;王生釗;楊仕娥;郜小勇;盧景霄;
溫度對(duì)非晶硅薄膜二次晶化的影響 靳銳敏,盧景霄,揚(yáng)仕娥,王海燕,李瑞,馮團(tuán)輝,段啟亮
a-Si:H薄膜固相晶化法制備大晶粒多晶硅薄膜 吳萍,姚若河,林璇英,余楚迎
摻磷硅薄膜的微結(jié)構(gòu)及光電特性研究 陳永生;王生釗;楊仕娥;郜小勇;盧景霄;
用鋅金屬有機(jī)源和二氧化碳等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積的方法制備高質(zhì)量氧化鋅薄膜 楚振生,李炳生,劉益春,申德振,范希武,劉毅南
等離子體氣相沉積非晶SiO_2薄膜的特性研究 何樂(lè)年
PECVD非晶SiO_x∶H薄膜的Si—O—Si鍵紅外吸收特性研究 何樂(lè)年
厚二氧化硅光波導(dǎo)薄膜制備及其特性分析 婁麗芳,盛鐘延,姚奎鴻,肖丙剛,何賽靈
退火溫度對(duì)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積方法生長(zhǎng)的ZnO薄膜質(zhì)量的影響 支壯志,王博,肇常勝
氫化納米非晶硅(na-Si:H)p-i-n太陽(yáng)電池 胡志華,廖顯伯,夏朝鳳,刁宏偉,孔光臨
射頻功率對(duì)類(lèi)金剛石薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響 李紅軒,徐洮,陳建敏,周惠娣,劉惠文
Raman散射和AFM對(duì)多晶硅薄結(jié)晶狀況的研究 李瑞,盧景霄,陳永生,楊仕娥,靳銳敏,王海燕,張宇翔,郜小勇
PECVD法在聚酰亞胺上沉積氮化硅薄膜的工藝研究 吳清鑫,于映,羅仲梓,陳光紅,張春權(quán),楊渭2
用SiCl_4/H_2氣源沉積多晶硅薄膜光照穩(wěn)定性的研究 祝祖送,林璇英,余云鵬,林揆訓(xùn),邱桂明,黃銳,余楚迎
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納米類(lèi)金剛石薄膜的制備及性能研究 李紅軒;徐洮;陳建敏;周惠娣;劉惠文;
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PECVD法生長(zhǎng)氮化硅薄膜對(duì)多晶硅少子壽命的影響 汪雷;王曉泉;龔燦峰;席珍強(qiáng);楊德仁;
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Structure Analysis of Fluorinated Diamond-Like Carbon Films Prepared at Varying Source Gas Flow Ratios 江美福;寧兆元;
復(fù)雜型腔工模具表面脈沖直流PCVD制備硬質(zhì)薄膜材料成套技術(shù) 馬勝利;徐可為;
MW-ECR CVD制備立方氮化硼薄膜 郜志華;陳光華;李志中;鄧金祥;丁毅;
采用ECR-PECVD技術(shù)低溫生長(zhǎng)多晶硅薄膜 秦福文;吳愛(ài)民;王艷艷;馮慶浩;李伯海;
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