原子層沉積氧化鋅應(yīng)用于銅銦鎵硒太陽能電池緩沖層的研究

【摘要】：用原子層沉積法在鈉鈣玻璃上沉積氧化鋅薄膜,利用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡和X射線衍射(XRD)等對(duì)樣品表面形貌和物相進(jìn)行分析,結(jié)果表明得到的ZnO納米顆粒為六角纖鋅礦結(jié)構(gòu),顆粒的尺寸在30～60nm之間;測(cè)得的ZnO薄膜厚度僅50nm,符合緩沖層要求;薄膜在可見光區(qū)域透射率達(dá)90%以上;使用原子層沉積氧化鋅薄膜作銅銦鎵硒太陽能電池的緩沖層,TEM顯示氧化鋅層完好、致密地覆蓋在CIGS層上,電池的光電轉(zhuǎn)換效率較高,完全可以替代有毒的CdS作緩沖層。 【作者單位】： 廣東工業(yè)大學(xué)材料與能源學(xué)院;華南理工大學(xué)電子與信息學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 原子層沉積 氧化鋅薄膜 銅銦鎵硒太陽能電池 緩沖層
【基金】：廣東省大學(xué)生創(chuàng)新實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目(1056111031) 廣東省科技計(jì)劃項(xiàng)目(2011A090200084)
【分類號(hào)】：TM914.4
【正文快照】： 0引言原子層沉積(Atomic layer deposition,ALD)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔,在沉積基體上化學(xué)吸附及反應(yīng)并形成沉積膜的一種新方法[1]。在前驅(qū)體脈沖之間需要用惰性氣體(高純N2)對(duì)原子層沉積反應(yīng)腔進(jìn)行清洗,原子層沉積的表面反應(yīng)具有自限性,不斷重復(fù)這種自限制

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