CuO薄膜的制備及其光伏特性

【摘要】：通過反應(yīng)磁控濺射在n型硅和玻璃襯底上制備了p型CuO薄膜.使用X射線衍射儀和紫外-可見光-近紅外光度計(jì)研究了p型CuO薄膜的結(jié)構(gòu)和光學(xué)特性,得出其平均晶粒尺寸和光學(xué)帶隙分別為8nm和1.36eV.通過研究其電壓-電流關(guān)系確定了在p型CuO薄膜和n型硅襯底之間形成了p-n結(jié).在AM 1.5光照條件下p-CuO/n-Si電池的開路電壓為0.33V,短路電流密度為6.27mA/cm2,填充因數(shù)和能量轉(zhuǎn)化效率分別為0.2和0.41%. 【作者單位】： 陜西師范大學(xué)物理學(xué)與信息技術(shù)學(xué)院;武警工程大學(xué)基礎(chǔ)部;航天第十六研究所;
【關(guān)鍵詞】： CuO薄膜 磁控濺射 p-n結(jié) 光伏特性
【基金】：香港何崇本新能源基金 國(guó)家自然科學(xué)基金(No.61040057) 中央高?；A(chǔ)研究基金(No.GK000902052)資助
【分類號(hào)】：O484.4
【正文快照】： 0引言銅有兩種主要的氧化相,分別是氧化銅CuO和氧化亞銅Cu2O,它們是天然的p型半導(dǎo)體材料,帶隙分別為1.2-1.9eV和1.8-2.5eV[1-2].由于銅的氧化物具有光學(xué)和電學(xué)特性良好、地球上含量豐富、無毒及成本較低等優(yōu)點(diǎn),它們是具有很大應(yīng)用潛力的光伏材料[3-5].在AM 1光照條件下,基于

您可以在本站搜索以下學(xué)術(shù)論文文獻(xiàn)來了解更多相關(guān)內(nèi)容

高像質(zhì)非晶硅薄膜晶體管液晶顯示器的研究    錢祥忠

非晶硅微測(cè)輻射熱計(jì)的材料、設(shè)計(jì)、制備和測(cè)試研究    馬鐵英

14nm低原子序數(shù)材料多層膜的設(shè)計(jì)和制備    吳文娟;張眾;朱京濤;王風(fēng)麗;陳玲燕;周洪軍;霍同林;

Mg_2Si薄膜的磁控濺射制備及表征    余志強(qiáng);謝泉;肖清泉;

Al_2O_3陶瓷基片上Ba_(0.7)Sr_(0.3)TiO_3薄膜可調(diào)介電性能的研究    王元;蔣書文;陳湘亮;

Ti-B-C-N納米復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能研究    羅慶洪;陸永浩;婁艷芝;

C底層厚度對(duì)FePt(001)織構(gòu)生長(zhǎng)的影響    劉梅;陳芳慧;王永紅;張玉梅;李海波;

Ni-Mn-Ga磁控濺射靶材合金制備及性能    陳峰華;張敏剛;柴躍生;楊利斌;熊杰;

FePt/Au多層膜的結(jié)構(gòu)和磁性能研究    張玉梅;劉梅;于永生;王永紅;李海波;費(fèi)維棟;

MMIC用多層磁膜電感研究    孔岑;李輝;周建軍;陳效建;陳辰;耿習(xí)嬌;

    

    

提高金屬涂層與有機(jī)基材附著力的表面改性研究    霍純青;桑利軍;陳強(qiáng);岳蕾;付亞波;

影響磁控濺射均勻性的因素    王軍生;童洪輝;趙嘉學(xué);韓大凱;戴彬;

磁控濺射制備SiO_2/TiO_2雙層減反射薄膜的研究    王賀權(quán);王志堅(jiān);巴德純;沈輝;聞立時(shí);李運(yùn)強(qiáng);

磁控反應(yīng)濺射Ge_xC_(1-x)薄膜的光學(xué)性能    劉正堂;宋建全;朱景芝;耿東生;鄭修鱗;

直流磁控濺射ITO薄膜的低溫等離子退火研究    朱長(zhǎng)純;商世廣;

沉積溫度對(duì)CN_x薄膜應(yīng)力和硬度的影響    鄭偉濤;

氮化硅薄膜熱處理前后表面組成和折射率    趙青南;董玉紅;劉瑩;趙慶忠;趙修建;

ZrC/ZrB_2納米多層膜的微觀結(jié)構(gòu)與機(jī)械性能的研究    楊瑾;張學(xué)華;曹猛;喬林;王明霞;鄧湘云;李德軍;

襯底溫度對(duì)磁控濺射硅薄膜結(jié)構(gòu)性能的影響    田桂;朱嘉琦;韓杰才;賈澤純;姜春竹;

Ti表面磁控濺射Nb膜的研究    姚為;吳愛萍;鄒貴生;任家烈;

輻照損傷材料的實(shí)驗(yàn)?zāi)M研究：含氦薄膜制備及MAX相材料離子輻照行為    張磊

極紫外和軟X射線窄帶多層膜的研究    吳文娟

含氦鈦膜的制備、表征及退火行為研究    劉超卓

氧化釩薄膜結(jié)構(gòu)和性能研究    許旻

鉿基高介電常數(shù)柵介質(zhì)薄膜的制備及其物性研究    劉毛

極紫外與軟X射線多層膜偏振元件研究    王洪昌

Mn摻雜Ⅳ族稀磁半導(dǎo)體的X射線吸收譜學(xué)研究    葉劍

ZnO：Al透明導(dǎo)電薄膜和ZnO發(fā)光器件的制備及特性研究    劉維峰

Si基稀磁半導(dǎo)體的X射線吸收譜學(xué)研究    姜泳

WC_xN_y、NbC_xN_y、TiC/α-C：H納米復(fù)合薄膜材料的微觀結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能研究    蘇亞東

硅基氧化鎢薄膜的制備及其性質(zhì)研究    盧振偉

P型氧化鋅薄膜的制備和性能    關(guān)麗秀

可低壓驅(qū)動(dòng)的鈦酸鋇薄膜場(chǎng)發(fā)射研究    劉愛青

類鎳鉭軟X射線激光用高反射鏡的研究    王蓓

組裝在Langmuir-Blodgett膜上的富勒烯表面增強(qiáng)拉曼散射研究    徐國(guó)香

摻氫非晶硅對(duì)高功率半導(dǎo)體激光器腔面鈍化的研究    牛江麗

復(fù)合磁電雙層膜的制備及其多鐵性研究    許靜

CoCrPt/Ag薄膜磁性能和微結(jié)構(gòu)的研究    高鳳菊

摻雜SiC薄膜的結(jié)構(gòu)和光致發(fā)光的研究    沙振東

50-110nm高反射率多層膜的設(shè)計(jì)、制備與檢測(cè)    李存霞