激光干涉和化學腐蝕制備氫化硅太陽能電池絨面結構

【摘要】：結合激光干涉法和化學腐蝕法制備絨面摻鋁氧化鋅薄膜,以及堿腐蝕制備金字塔單晶硅絨面結構。采用掃描電鏡觀察了絨面形貌,用紫外-可見分光光度計對反射率進行了測試。比較了幾種典型絨面結構在降低反射率方面的效果。以n-100型單晶硅為襯底,采用直流磁控濺射、熱蒸發(fā)等技術制備Al/AZO/P-H:硅太陽能電池,初步探討了絨面結構對氫化硅太陽能電池短路電流和開路電壓的影響。 【作者單位】：同濟大學物理系精密光學工程技術研究所
【關鍵詞】：激光干涉法 單晶硅 摻鋁氧化鋅 直流磁控濺射 絨面結構
【分類號】：TM914.4
【正文快照】： 1引言 氫化硅(Si:H )太陽能電池常見的結構為:n型單晶硅襯底(或p型)/p型或(n型)Si:H/TCO/A1。其中硅的p-n結主要產生光電流,TCO薄膜用來收集電流,A1是電極。摻鋁氧化鋅透明導電薄膜(Al:ZnO, AZO)以其優(yōu)異的導電性能、可見光透過性能、良好的氫等離子體穩(wěn)定性能、以及價格低

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