首頁 > 學(xué)術(shù)論文

陽極氧化法制備硅太陽能電池用鈍化層

來源:論文學(xué)術(shù)網(wǎng)
時間:2024-08-18 22:00:15
熱度:

陽極氧化法制備硅太陽能電池用鈍化層【摘要】:鈍化是影響太陽電池效率的重要原因之一,現(xiàn)在工業(yè)化生產(chǎn)中常用的鈍化方法有:高溫?zé)嵘L二氧化硅以及等離子體增強化學(xué)氣相沉積法(PECVD)沉

【摘要】:鈍化是影響太陽電池效率的重要原因之一,現(xiàn)在工業(yè)化生產(chǎn)中常用的鈍化方法有:高溫?zé)嵘L二氧化硅以及等離子體增強化學(xué)氣相沉積法(PECVD)沉積氮化硅(SiNx)等。但SiNx/Si表面晶格失陪嚴(yán)重,導(dǎo)致界面缺陷態(tài)密度很高且有效少子壽命下降,而高溫?zé)嵘L二氧化硅會降低體壽命,并且成本高的原因也未能得到廣泛應(yīng)用。二氧化硅也可以通過電化學(xué)方法生長。電化學(xué)生長二氧化硅較其他方法有低溫工藝以及容易在粗糙表面生長等優(yōu)點,所以如何提高其界面特性以及鈍化效果顯得尤為重要。 本論文采用電化學(xué)方法使用硝酸溶液在p型絨面硅上生長了一層二氧化硅,通過改變氧化電壓,氧化時間,溶液濃度以及退火工藝等研究了陽極氧化二氧化硅的鈍化效果。通過SEM圖觀察了不同氧化條件下其表面形貌,使用高頻電容電壓(C-V)及瞬態(tài)表面光伏衰減(SPV)技術(shù)研究分析了不同生長和退火條件下SiO2/Si界面特性的變化及光生少數(shù)載流子的復(fù)合過程。實驗發(fā)現(xiàn)低的反應(yīng)電壓(10V),高濃度溶液(3mol/L),較短的反應(yīng)時間(20分鐘)以及高溫退火(500℃)可以得到更好的SiO2/Si界面特性且可以減慢光生少數(shù)載流子復(fù)合速度。分析其原因發(fā)現(xiàn):SiO2/Si界而的界面態(tài)以及電荷主要受隧穿電流,氧化速率,溶液中水的含量以及退火溫度的控制。隧穿電流中的電子易被陷阱捕獲而產(chǎn)生負(fù)電中心。電子也可以在電場加速下成為熱電子而產(chǎn)生新的界面缺陷態(tài)。氧化速率受溶液中水含量的控制,高的氧化速率會導(dǎo)致不均勻的氧化膜從而有更多的過剩硅離子相關(guān)界面態(tài)產(chǎn)生。退火工藝中較低溫度下退火后正電荷減少,界面缺陷態(tài)沒有變化,從而加快了光生少數(shù)載流子的復(fù)合。500-C下退火則界面缺陷態(tài)以及固定正電荷同時減少,界面缺陷態(tài)減少產(chǎn)生的影響更顯著,起到了減慢光生少數(shù)載流子復(fù)合的作用。 【關(guān)鍵詞】:二氧化硅 鈍化 太陽電池 電化學(xué) 陽極氧化
【學(xué)位授予單位】:大連理工大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2013
【分類號】:TM914.4
【目錄】:
  • 摘要4-5
  • Abstract5-8
  • 1 緒論8-11
  • 1.1 太陽能電池及鈍化進展8-9
  • 1.2 國內(nèi)太陽能電池研究概況9-11
  • 2 太陽能電池及鈍化原理11-17
  • 2.1 太陽電池工作原理11-12
  • 2.2 太陽能電池效率限制因素以及解決方法12-14
  • 2.3 太陽能電池鈍化14-17
  • 2.3.1 半導(dǎo)體的表面復(fù)合14-15
  • 2.3.2 多種鈍化方法比較15-17
  • 3 電化學(xué)二氧化硅研究17-30
  • 3.1 二氧化硅及其界面性質(zhì)17-20
  • 3.1.1 二氧化硅中缺陷的分類17-18
  • 3.1.2 二氧化硅中缺陷的產(chǎn)生原理18-20
  • 3.2 電化學(xué)二氧化硅特性與生長機理20-24
  • 3.2.1 電化學(xué)二氧化硅生長機理20-22
  • 3.2.2 電化學(xué)二氧化硅特性22-23
  • 3.2.3 電化學(xué)二氧化硅影響因素23-24
  • 3.3 電化學(xué)二氧化硅表征技術(shù)24-30
  • 3.3.1 電容-電壓測試方法24-27
  • 3.3.2 表面光伏(SPV)測試技術(shù)27-30
  • 4 電化學(xué)生長SiO_2/Si界面特性以及鈍化效果研究30-41
  • 4.1 電化學(xué)二氧化硅制備過程30
  • 4.2 反應(yīng)電壓對SiO_2/Si界面以及硅少子復(fù)合的影響30-35
  • 4.3 溶液濃度對SiO_2/Si界面以及硅少子復(fù)合的影響35-36
  • 4.4 反應(yīng)時間對SiO_2/Si界面以及硅少子復(fù)合的影響36-39
  • 4.5 柵電壓改變表面電荷濃度39-41
  • 5 電化學(xué)二氧化硅退火對少子復(fù)合過程的影響41-46
  • 5.1 退火條件對SiO_2/Si界面特性的影響41-43
  • 5.2 退火條件對光生少數(shù)載流子復(fù)合的影響43-46
  • 結(jié)論46-47
  • 參考文獻(xiàn)47-51
  • 攻讀碩士學(xué)位期間發(fā)表學(xué)術(shù)論文情況51-52
  • 致謝52-53


您可以在本站搜索以下學(xué)術(shù)論文文獻(xiàn)來了解更多相關(guān)內(nèi)容

SOI MOSFET抗輻射加固的常用方法與新結(jié)構(gòu)    何玉娟;劉潔;恩云飛;羅宏偉;師謙;

熱載流子注入對MOS結(jié)構(gòu)C─V和I─V特性的影響    趙策洲,董建榮,張德勝,史保華

化學(xué)腐蝕法制備多晶硅的絨面    盧景霄,孫曉峰,王海燕,李維強,谷錦華

光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀、趨勢及思考    趙玉文;

集成電路中的物理問題講座 第六講 硅-二氧化硅系統(tǒng)中的電荷和界面陷阱    陸德仁

常壓射頻低溫等離子體增強化學(xué)氣相沉積二氧化硅薄膜的研究    李立

ATO粉體的制備工藝及其導(dǎo)電性能的研究    尹大鵬;朱協(xié)彬;汪海濤;

金屬/多孔硅/硅結(jié)構(gòu)發(fā)光器件輸運特性的研究    卓敬清;李宏建;夏輝;崔昊楊;

金屬支架0.5W紅外發(fā)光二極管研究    夏正浩;李炳乾;鄭同場;王衛(wèi)國;張運華;

雙異質(zhì)結(jié)擴展波長InGaAs PIN光電探測器暗電流研究    李成;李好斯白音;李耀耀;王凱;顧溢;張永剛;

納米級富氮SiO_xN_y薄膜的電子注入損傷研究    張昊,陳蒲生,田小峰,馮文修,劉小陽

超聲波輔助濕法腐蝕制備多晶Si低反射表面    王藝帆;周浪;

微波pin二極管電阻與溫度的關(guān)系    顧曉春;吳思漢;

p型N摻雜ZnO薄膜的MOCVD生長與電學(xué)性質(zhì)    湯琨;顧書林;朱順明;

PbTe/Pb_(1-x)Sr_xTe多量子阱中紅外發(fā)光二極管的研究    斯劍霄;吳惠楨;翁斌斌;何展;蔡春鋒;

高壓VDMOS用外延片的外延參數(shù)設(shè)計    趙麗霞;袁肇耿;張鶴鳴;

MOSFET亞閾值斜率隨溫度變化關(guān)系研究    齊領(lǐng);恩云飛;章曉文;

W型光子晶體光纖模型概述與濾波特性研究    李相;陳勝平;司磊;

BESⅢ飛行時間電子學(xué)電荷測量電路的溫度補償    封常青;劉樹彬;王進紅;安琪;

染色法測量N~+N擴散結(jié)深的修正系數(shù)初探    李寶香;石會平;李麗;

多晶硅太陽電池表面酸腐蝕織構(gòu)化工藝的研究    趙汝強;沈輝;梁宗存;李軍勇;曾廣博;

微晶硅薄膜太陽電池的計算機模擬    趙明利;閆果果;楊仕娥;

功率LED電壓與溫度關(guān)系研究    毛德豐;郭偉玲;高國;沈光地;

SOI技術(shù)及其抗輻照能力研究    周樂文;竇文華;安蔚釗;

光伏跟蹤系統(tǒng)智能控制方法的研究    徐曉冰

聚乙烯/無機填料復(fù)合材料非線性電導(dǎo)特性及機理研究    郭文敏

幾種微電子材料的制備、表征與性能研究    章聞奇

MOCVD法制備氧化鋅發(fā)光器件及薄膜晶體管的研究    趙旺

功能性半導(dǎo)體納米晶組裝體系的制備及其可見光響應(yīng)性能研究    張輝

柔性襯底薄膜光伏電池相關(guān)材料制備及性能    岳紅云

有機小分子及微晶硅薄膜晶體管研究    李俊

ZnO/Si異質(zhì)結(jié)的制備與特性研究    熊超

a-Si:H/c-Si異質(zhì)結(jié)界面特性的理論研究    鐘春良

有機薄膜晶體管制備和性能研究    聶國政

Zn_xCd_(1-x)S納米粉體及薄膜的制備和光致發(fā)光研究    智鋼

碳化硅基熱電材料的制備及性能研究    李明亮

氧化鈦基光電子器件    王文杰

KrF激光微細(xì)加工Al_2O_3陶瓷機理及試驗研究    祝超

超薄側(cè)光式LED液晶電視背光源設(shè)計與驅(qū)動電源硬件實現(xiàn)    張志睿

瞬態(tài)電壓抑制二極管可靠性篩選工藝研究    周廷榮

單晶硅太陽電池擴散工藝和絨面制備的研究    潘峰

Mg_2Si_(0.3)Sn_(0.7)固溶體的熱電性能及其結(jié)構(gòu)微細(xì)化探索    童吉楚

功率場效應(yīng)晶體管(MOSFET)的可制造性設(shè)計    趙志桓

介電氧化物/GaN基半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電學(xué)性能研究    王水力

HCl氧化物MOS結(jié)構(gòu)中鈉離子的鈍化    陸德仁,王纓,王其閔

磷硅玻璃鈍化度和可動離子界面陷阱能級分布的研究    王陽元,吉利久,王德智,王冰如

多孔硅在多晶硅太陽電池上的應(yīng)用    林安中,周良德,尹峰,李學(xué)萍,肖緒瑞

低溫等離子體技術(shù)    任兆杏,丁振峰

太陽能驅(qū)動未來(下)    紀(jì)秀磊;

硅太陽能電池在我段信號點燈方面的應(yīng)用    張正新;

太陽能小艇的推進裝置    王紹元;

葉綠素與新能源開發(fā)    王春華;

我國太陽能利用研究狀況    

多晶硅太陽能電池    筱軍;

德研發(fā)出轉(zhuǎn)換率逾20%的多晶硅太陽能電池    李峰;

TiO_2基太陽能電池研究進展    陳云霞;郝江波;何鑫;

采集太陽能(上)——基礎(chǔ)化學(xué)推進新型低成本太陽能電池的開發(fā)    

2009年太陽能電池市場重新洗牌已無可避免,挑戰(zhàn)與機遇并存    

浮法超白玻璃用晶硅太陽能電池蓋板的研究    杜勇;李釗;

硅太陽能電池在1319nm激光輻照下的熱激發(fā)載流子效應(yīng):一種對能量低于禁帶寬度光子的響應(yīng)研究    江天;

氟基等離子體診斷以及在多晶硅太陽能電池制絨中應(yīng)用研究    鄒帥;辛煜;唐中華;吉亮亮;蘇曉東;

統(tǒng)計制程控制在硅太陽能制造中的應(yīng)用    高傳樓;

環(huán)保型硅太陽能電池背場鋁漿的研究進展    付明;丁驍;范琳;

斜入射下金屬納米顆粒對硅太陽能電池吸收增益的研究    夏子奐;

嵌入式節(jié)能利用型太陽能光伏供電系統(tǒng)在通信局(站)的應(yīng)用    劉寶貴;侯福平;

太陽電池?zé)┕に噷Φ璞∧さ墓鈱W(xué)性質(zhì)的影響    周之斌;趙占霞;陳鳳祥;古麗娜;孟凡英;崔容強;

太陽能光伏發(fā)電系統(tǒng)的設(shè)計    李大軍;

切割鋼絲發(fā)展方向及生產(chǎn)注意事項探討    毛可勇;

“英利”N型單晶硅太陽能電池技術(shù)達(dá)國際領(lǐng)先水平    信國安 王炳洋

單晶硅太陽能電池基地奠基    記者 黃瑩 通訊員 胡沛 馮濤 徐文婷

在漢生產(chǎn)單晶硅太陽能電池    記者 嚴(yán)運濤 通訊員 胡沛 馮濤 徐文婷

全省最大高效晶硅太陽能電池項目落戶清流    魏永富

晶澳成全球最大晶體硅太陽能電池片供應(yīng)商    通訊員 段同剛 記者 蔡計鎖

英利N型硅太陽能電池技術(shù)實現(xiàn)新突破    記者 劉飛

單晶硅太陽能電池片蕪湖問世    記者 沈?qū)m石 通訊員 王賢志

晶澳躍升全球最大晶體硅太陽能電池廠商    通訊員 段同剛 高琴偉 記者 鄭惠華

鄂旗又一重大項目獲自治區(qū)立項備案    格日樂其其格

超日太陽兩項目試產(chǎn)成功達(dá)產(chǎn)后公司業(yè)績將暴增    記者 劉相華

晶體硅太陽能電池梯度減反射膜及硅錠中晶體缺陷的研究    劉兵發(fā)

多晶硅太陽電池新腐蝕液的研究及其應(yīng)用    劉志剛

中國光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略研究    李曉剛

低溫液相法制備三元硫?qū)侔雽?dǎo)體薄膜的研究    石勇

單晶硅太陽能電池效率進一步提高探索    游金釧

單晶硅太陽能電池生產(chǎn)工藝的研究    王瑤

晶體硅太陽能電池絲網(wǎng)印刷工藝優(yōu)化的研究    李棟才

單晶硅太陽能電池表面制絨新方法研究    孫林鋒

工業(yè)晶體硅太陽能電池柵線優(yōu)化研究    王慶偉

硅太陽能電池中擊穿機制的研究    楊臣

單晶黑硅太陽能電池性能研究與硅表面制備銀柵線    張恩陽

硅太陽能電池中深能級的研究    李葛亮

基于光學(xué)微結(jié)構(gòu)減小硅太陽能電池反射光損失的研究    彭露露

晶硅太陽能電池表面鈍化薄膜和機理的研究    張偉