陽極氧化法制備硅太陽能電池用鈍化層
陽極氧化法制備硅太陽能電池用鈍化層【摘要】:鈍化是影響太陽電池效率的重要原因之一,現(xiàn)在工業(yè)化生產(chǎn)中常用的鈍化方法有:高溫?zé)嵘L二氧化硅以及等離子體增強化學(xué)氣相沉積法(PECVD)沉
【學(xué)位授予單位】:大連理工大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2013
【分類號】:TM914.4
【目錄】:
- 摘要4-5
- Abstract5-8
- 1 緒論8-11
- 1.1 太陽能電池及鈍化進展8-9
- 1.2 國內(nèi)太陽能電池研究概況9-11
- 2 太陽能電池及鈍化原理11-17
- 2.1 太陽電池工作原理11-12
- 2.2 太陽能電池效率限制因素以及解決方法12-14
- 2.3 太陽能電池鈍化14-17
- 2.3.1 半導(dǎo)體的表面復(fù)合14-15
- 2.3.2 多種鈍化方法比較15-17
- 3 電化學(xué)二氧化硅研究17-30
- 3.1 二氧化硅及其界面性質(zhì)17-20
- 3.1.1 二氧化硅中缺陷的分類17-18
- 3.1.2 二氧化硅中缺陷的產(chǎn)生原理18-20
- 3.2 電化學(xué)二氧化硅特性與生長機理20-24
- 3.2.1 電化學(xué)二氧化硅生長機理20-22
- 3.2.2 電化學(xué)二氧化硅特性22-23
- 3.2.3 電化學(xué)二氧化硅影響因素23-24
- 3.3 電化學(xué)二氧化硅表征技術(shù)24-30
- 3.3.1 電容-電壓測試方法24-27
- 3.3.2 表面光伏(SPV)測試技術(shù)27-30
- 4 電化學(xué)生長SiO_2/Si界面特性以及鈍化效果研究30-41
- 4.1 電化學(xué)二氧化硅制備過程30
- 4.2 反應(yīng)電壓對SiO_2/Si界面以及硅少子復(fù)合的影響30-35
- 4.3 溶液濃度對SiO_2/Si界面以及硅少子復(fù)合的影響35-36
- 4.4 反應(yīng)時間對SiO_2/Si界面以及硅少子復(fù)合的影響36-39
- 4.5 柵電壓改變表面電荷濃度39-41
- 5 電化學(xué)二氧化硅退火對少子復(fù)合過程的影響41-46
- 5.1 退火條件對SiO_2/Si界面特性的影響41-43
- 5.2 退火條件對光生少數(shù)載流子復(fù)合的影響43-46
- 結(jié)論46-47
- 參考文獻(xiàn)47-51
- 攻讀碩士學(xué)位期間發(fā)表學(xué)術(shù)論文情況51-52
- 致謝52-53
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