激光干涉刻蝕太陽能電池減反射微結(jié)構(gòu)的研究

【摘要】：針對目前太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率低下,對入射光不能進行有效的吸收,本文采用了激光干涉的方法在單晶硅表面進行刻蝕制造微結(jié)構(gòu),來達到減少入射光的損失,增加光的吸收。 本文使用的是四光束激光干涉,通過四束激光在特定區(qū)域干涉,干涉區(qū)域內(nèi)的場強重新分布,形成周期性的光強分布。在單晶硅片上刻蝕出周期性的微結(jié)構(gòu),并用微腔理論對其減反射進行分析。 制備出的微結(jié)構(gòu)周期為14.2μm,和未制備微結(jié)構(gòu)的硅片相比,反射率有大幅的降低,在400nm附近反射率達到最低為3.1%。和太陽能電池相比,在300nm-570nm和1030nm~1100nm波段,經(jīng)過刻蝕的硅片減反射效果優(yōu)于太陽能電池。該方法可以用于制備太陽能電池的絨面結(jié)構(gòu)。 【關(guān)鍵詞】：光電池 微結(jié)構(gòu) 微腔 減反射 激光干涉
【學(xué)位授予單位】：長春理工大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2013
【分類號】：TM914.4
【目錄】：

• 摘要4-5
• ABSTRACT5-6
• 目錄6-7
• 第一章 緒論7-12
• 1.1 引言7-9
• 1.2 提高太陽能電池效率的發(fā)展現(xiàn)狀9-11
• 1.3 論文研究的目的和內(nèi)容11-12
• 第二章 太陽能電池減反射微結(jié)構(gòu)的研究12-25
• 2.1 光在物體表面的反射和折射12-16
• 2.2 傳統(tǒng)太陽能電池絨面結(jié)構(gòu)減反射16-19
• 2.3 微腔理論分析太陽能電池減反射19-25
• 第三章 激光干涉刻蝕太陽能電池表面系統(tǒng)設(shè)計25-37
• 3.1 干涉光刻理論基礎(chǔ)25-27
• 3.2 激光干涉光刻的類型27-31
• 3.3 光刻圖形的模擬31-37
• 第四章 減反射微結(jié)構(gòu)的制備37-50
• 4.1 光刻系統(tǒng)組件與系統(tǒng)光路37-40
• 4.2 軟件模擬40-41
• 4.3 實驗過程41-45
• 4.4 刻蝕區(qū)域的拼接45-47
• 4.5 反射率測量47-50
• 結(jié)論50-51
• 致謝51-52
• 參考文獻52-53

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