太陽能高反射薄膜制備技術(shù)對薄膜性能的影響

【摘要】：采用磁過濾陰極真空弧沉積(FCVAD)與磁控濺射(MS)兩種技術(shù)在玻璃上制備厚度分別為75 nm和165 nm的Glass/Al高反射薄膜,利用Lambda 950分光光度計、掃描電子顯微鏡、原子力顯微鏡、附著力測試儀、摩擦試驗(yàn)機(jī)和加速老化試驗(yàn)箱分別表征薄膜的反射率、表面形貌、粗糙度、附著力、耐摩擦和耐老化性能,通過薄膜性能評估分析兩種技術(shù)制備高反射膜性能的差異。結(jié)果表明:在雙方優(yōu)化工藝下,FCVAD制備的薄膜表面形貌和附著力優(yōu)于MS薄膜;FCVAD制備的75 nm和165 nm薄膜反射率比同厚度MS薄膜高出3.3%~4.2%;75 nm厚的薄膜方均根粗糙度明顯小于同厚度的MS薄膜;FCVAD制備的75 nm薄膜老化后反射率僅下降1.2%,而MS同厚度薄膜反射率下降了3.3%~4%。說明FCVAD在制備高反射膜方面比磁控濺射更有優(yōu)勢。 【作者單位】： 華南理工大學(xué)化學(xué)與化工學(xué)院;東莞理工學(xué)院能源與化工系;
【關(guān)鍵詞】： 光學(xué)薄膜 物理氣相沉積 磁過濾陰極真空弧沉積 磁控濺射 高反射膜
【基金】：廣東省教育部產(chǎn)學(xué)研結(jié)合項目(2012B091100296) 廣東省高等學(xué)校科技創(chuàng)新重點(diǎn)項目(cxzd1148)
【分類號】：TB383.2
【正文快照】：

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