應(yīng)用于聚焦電子束的高亮度大尺寸石墨烯涂覆的冷場(chǎng)點(diǎn)發(fā)射源引言電子顯微鏡和光刻技術(shù)的冷場(chǎng)發(fā)射源存在幾個(gè)長期存在的問題，例如它們固有的超高真空條件要求，電流穩(wěn)定性相對(duì)較差以及發(fā)射衰減快，

應(yīng)用于聚焦電子束的高亮度大尺寸石墨烯涂覆的冷場(chǎng)點(diǎn)發(fā)射源引言電子顯微鏡和光刻技術(shù)的冷場(chǎng)發(fā)射源存在幾個(gè)長期存在的問題，例如它們固有的超高真空條件要求，電流穩(wěn)定性相對(duì)較差以及發(fā)射衰減快，