熒光分析儀的誤差來源有哪些
來源:新能源網(wǎng)
時(shí)間:2024-08-17 11:50:29
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熒光分析儀的誤差來源有哪些【專家解說】:X射線熒光分析儀是通過X射線管產(chǎn)生的X射線作為激光源,激發(fā)樣品產(chǎn)生熒光X射線。根據(jù)熒光X射線的波長和強(qiáng)度來確定樣品的化學(xué)組成。 作為一種質(zhì)量
【專家解說】:X射線熒光分析儀是通過X射線管產(chǎn)生的X射線作為激光源,激發(fā)樣品產(chǎn)生熒光X射線。根據(jù)熒光X射線的波長和強(qiáng)度來確定樣品的化學(xué)組成。 作為一種質(zhì)量檢測手段,我國大,中型水泥廠(新型干法)幾乎都配套使用了X射線熒光分析儀。X射線熒光分析過程中產(chǎn)生誤差的原因主要有操作方面、儀器方面、以及試樣本身等三方面因素。 操作方面帶來誤差的因素: ①粉磨時(shí)未設(shè)定好粉磨時(shí)間和壓力,達(dá)不到要求的粉磨粒度或相應(yīng)的料度分布。實(shí)驗(yàn)表明當(dāng)粉磨時(shí)間短于試驗(yàn)設(shè)定時(shí)間,測定結(jié)果就會(huì)產(chǎn)生波動(dòng)。同時(shí),粉磨時(shí)未按規(guī)定加適量助磨劑或所加助磨劑中含有所要分析的元素,都會(huì)給測定結(jié)果帶來較大影響。磨頭和磨盤里留有前期樣品或被其它物質(zhì)污染),結(jié)果也會(huì)產(chǎn)生誤差。 ②壓片時(shí),未設(shè)定好時(shí)間和壓力,壓力效果不好或壓片時(shí)樣品布入不均勻而產(chǎn)生了樣品的堆積分布不均,或壓片板(壓片頭)不潔凈(或上面粘有前期樣品)等,都會(huì)影響分析結(jié)果。 ③制樣未保護(hù)好,制樣裝入試樣盒的位置不當(dāng),結(jié)果給分析帶來誤差。制樣未保護(hù)好有兩層含義:A.未保護(hù)好制樣光潔度。如用手指摸分析面、或用手指甲劃、用口吹、用濕毛巾擦分析面等;B.制樣在空氣中放置太久,使分析面與空氣中物質(zhì)發(fā)生了物理化學(xué)變化。制樣裝盒位置不當(dāng),把測樣片裝倒了或測樣片表面與試樣盒表面成一傾斜角等,都會(huì)影響到射線管與分析面的距離,從而產(chǎn)生誤差。 ④熒光分析中,由于分析面上的樣品灰未除掉,久之影響到儀器真空度;或由于操作者粗心,分析程序選錯(cuò),如測生料時(shí)用上測熟料的分析曲線或用了測石灰石的曲線,顯然結(jié)果不正確。 儀器方面的誤差因素: ① 壓片板(或壓片頭)不光潔,導(dǎo)致分析面不光滑,從而影響測量結(jié)果。 ② 光路真空度不合適,分光晶體、濾光片選擇不佳,使各種射線產(chǎn)生干擾,影響分析。 ③ X射線管電壓、電流不穩(wěn)定,從而產(chǎn)生結(jié)果波動(dòng)。 ④隨著時(shí)間的延長,X光管內(nèi)部元件尺寸位置變化引起初級X射線強(qiáng)度的變化,或X射線管陽極出現(xiàn)斑痕,靶元素在窗口沉積,給分析結(jié)果帶來誤差。 ⑤溫度的變化,引起分光晶體晶面間距變化,從而影響分光效率。正比計(jì)數(shù)管高壓漂移,溫度變化引起管內(nèi)氣體成分變化,影響放大倍數(shù)。 ⑥ 電子電路的漂移,計(jì)數(shù)的統(tǒng)計(jì)誤差,檢測過程的時(shí)間損失引入的計(jì)數(shù)誤差等。 ⑦氣體的壓力、氮?dú)?、甲烷氣體的流量、溫度等輻射通道條件的變化,都會(huì)影響光路中氣體對X射線的吸收。因此,氣瓶的減壓閥一旦調(diào)好,不要隨意再動(dòng),特別是更換新氣時(shí),一定要嘗試著多次調(diào)氣壓,否則,由于氣流、氣壓不穩(wěn),使結(jié)果產(chǎn)生誤差。 試樣本身的誤差因素: ① 試樣易磨性。有的試樣易磨性較差,對測定構(gòu)成影響。 ② 試樣成分。有的試樣基本組成成分與標(biāo)準(zhǔn)試樣組成成分不一致,也會(huì)影響測定結(jié)果。 ③基體效應(yīng)。基體中其它元素對分析元素的影響,包括吸收和增強(qiáng)效應(yīng),吸收效應(yīng)直接影響對分析元素的激發(fā)和分析元素的探測強(qiáng)度。增強(qiáng)效應(yīng)使分析元素特征輻射增強(qiáng)。 ④ 不均勻性效應(yīng)。X射線強(qiáng)度與顆粒大小有關(guān),大顆粒吸收大,小顆粒吸收小,這是試樣粒度的影響。 ⑤ 譜線干擾。各譜線系中譜線產(chǎn)生重疊、干擾,還有來自不同衍射級次的衍射線之間干擾。 避免誤差的措施: 對于上述幾方面誤差,應(yīng)具體情況具體分析予以克服。 首先應(yīng)將樣品磨細(xì)、壓實(shí)以減少試樣的不均勻性,其次是選擇無干擾的譜線、降低電壓至于擾元素激發(fā)電壓以下,選擇適當(dāng)分光晶體、計(jì)數(shù)管、準(zhǔn)直器或調(diào)整脈沖高度分析器、提高分辯本領(lǐng),在分析晶體和探測器之間放置濾光片,濾去或減弱干擾譜線。第三是嚴(yán)格按儀器設(shè)備管理辦法安裝、調(diào)試好儀器設(shè)備,避免儀器誤差。第四是嚴(yán)格按照操作規(guī)程認(rèn)真操作,避免人為的操作誤差。
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