什么是PEVCD

【專家解說】：PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 原理:利用強(qiáng)電場(chǎng)或磁場(chǎng)使所需的氣體源分子電離產(chǎn)生等離子體，等離子體中含有很多活性很高的化學(xué)基團(tuán)這些基團(tuán)經(jīng)過經(jīng)一系列化學(xué)和等離子體反應(yīng)，在樣品表面形成固態(tài)薄膜。 其主要作用是在太陽能電池及硅晶片的表面鍍一層SiN薄膜，這層薄膜可以減少太陽光的反射率，增加光電轉(zhuǎn)換效率。它還具有良好的抗氧化和絕緣性能，同時(shí)具有良好的掩蔽金屬和水離子擴(kuò)散的能力，化學(xué)穩(wěn)定性良好，除氫氟酸和熱磷酸能緩慢腐蝕外，其他酸基本不起作用。