PECVD是什么

【專家解說(shuō)】：1.PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）的概念及其原理：利用強(qiáng)電場(chǎng)或磁場(chǎng)使所需的氣體源分子電離產(chǎn)生等離子體，等離子體中含有很多活性很高的化學(xué)基團(tuán)這些基團(tuán)經(jīng)過(guò)經(jīng)一系列化學(xué)和等離子體反應(yīng)，在樣品表面形成固態(tài)薄膜。 其主要作用是在太陽(yáng)能電池及硅晶片的表面鍍一層SiN薄膜，這層薄膜可以減少太陽(yáng)光的反射率，增加光電轉(zhuǎn)換效率。它還具有良好的抗氧化和絕緣性能，同時(shí)具有良好的掩蔽金屬和水離子擴(kuò)散的能力，化學(xué)穩(wěn)定性良好，除氫氟酸和熱磷酸能緩慢腐蝕外，其他酸基本不起作用。 也不知道說(shuō)清楚沒(méi)有，盡供參考！