中國(guó)科技大學(xué)目前提交硒技術(shù)專利多少項(xiàng)?
來源:新能源網(wǎng)
時(shí)間:2024-08-17 08:17:14
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中國(guó)科技大學(xué)目前提交硒技術(shù)專利多少項(xiàng)?【專家解說】:總共三項(xiàng)相關(guān)專利
申請(qǐng)?zhí)枺?CN200910236574.8 申請(qǐng)日: 2009.10.26 公開
【專家解說】:總共三項(xiàng)相關(guān)專利
申請(qǐng)?zhí)枺?CN200910236574.8
申請(qǐng)日: 2009.10.26
公開(公告)號(hào): CN101700871A
公開(公告)日: 2010.05.05
申請(qǐng)(專利權(quán))人: 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)
分類號(hào): B82B3/00(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I
優(yōu)先權(quán):
摘要:本發(fā)明公開一種銅銦硒納米線陣列及其制備方法。本發(fā)明是在玻璃或硅片基底上制備金屬電極層后,利用有序納米模板做生長(zhǎng)掩膜在襯底上的金屬電極上電沉積制備有序的納米線結(jié)構(gòu)銅銦硒P型吸收層材料陣列。并通過化學(xué)腐蝕或物理刻蝕的方法從上至下部分去除模板,露出納米線陣列,該陣列可用于制備具有光電轉(zhuǎn)換性能的異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池。
申請(qǐng)?zhí)枺?CN201010211713.4
申請(qǐng)日: 2010.06.21
公開(公告)號(hào): CN102054899A
公開(公告)日: 2011.05.11
申請(qǐng)(專利權(quán))人: 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)
分類號(hào): H01L31/18(2006.01)I
優(yōu)先權(quán):
摘要:本
發(fā)明公開了一種制備CuInSe2薄膜的方法。該方法,包括如下步驟:1)將銅鹽和銦鹽溶于有機(jī)溶劑中后,加入硝酸水溶液混勻,再加入乙醇胺進(jìn)行反應(yīng),至
反應(yīng)體系的pH值為6時(shí)反應(yīng)完畢,密封保溫后得到前驅(qū)體溶膠;2)將所述前驅(qū)體溶膠成膜,干燥后在氫氣氣氛中進(jìn)行還原,所述還原反應(yīng)完畢冷卻至室溫后再與硒粉進(jìn)行硒化反應(yīng),反應(yīng)完畢冷卻至室溫后得到所述CuInSe2薄膜。該方法簡(jiǎn)單可行,成本低,所得薄膜質(zhì)量高,是一種應(yīng)用于大規(guī)模低成本的銅銦硒薄膜太陽(yáng)能電池有效方法。
申請(qǐng)?zhí)枺?CN200910236576.7
申請(qǐng)日: 2009.10.26
公開(公告)號(hào): CN101700872A
公開(公告)日: 2010.05.05
申請(qǐng)(專利權(quán))人: 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)
分類號(hào): B82B3/00(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I
優(yōu)先權(quán):
摘要:本發(fā)明公開一種銅銦鎵硒納米線陣列及其制備方法。本發(fā)明是在玻璃或硅片基底上制備金屬電極層后,利用有序納米模板做生長(zhǎng)掩膜在襯底上的金屬電極上電沉積制備有序的納米線結(jié)構(gòu)銅銦鎵硒P型吸收層材料陣列。并通過化學(xué)腐蝕或物理刻蝕的方法從上至下部分去除模板,露出納米線陣列,該陣列可用于與N型窗口層及金屬電極組成具有光電轉(zhuǎn)換性能的異質(zhì)結(jié)。該銅銦鎵硒納米線陣列適用于高效率、低成本太陽(yáng)能電池的制備。
熱門標(biāo)簽:中國(guó)科技大學(xué) 臺(tái)灣
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