論文 關(guān)于半導體應用前景 字數(shù)2000至少 高分懸賞

【專家解說】：以非晶態(tài)半導體材料為主體制成的固態(tài)電子器件。非晶態(tài)半導體雖然在整體上分子排列無序，但是仍具有單晶體的微觀結(jié)構(gòu)，因此具有許多特殊的性質(zhì)。1975 年，英國W.G.斯皮爾在輝光放電分解硅烷法制備的非晶硅薄膜中摻雜成功，使非晶硅薄膜的電阻率變化10個數(shù)量級，促進非晶態(tài)半導體器件的開發(fā)和應用。同單晶材料相比，非晶態(tài)半導體材料制備工藝簡單，對襯底結(jié)構(gòu)無特殊要求，易于大面積生長，摻雜后電阻率變化大，可以制成多種器件。非晶硅太陽能電池吸收系數(shù)大，轉(zhuǎn)換效率高，面積大，已應用到計算器、電子表等商品中。非晶硅薄膜場效應管陣列可用作大面積液晶平面顯示屏的尋址開關(guān)。利用某些硫系非晶態(tài)半導體材料的結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變來記錄和存儲光電信息的器件已應用于計算機或控制系統(tǒng)中。利用非晶態(tài)薄膜的電荷存儲和光電導特性可制成用于靜態(tài)圖像光電轉(zhuǎn)換的靜電復印機感光體和用于動態(tài)圖像光電轉(zhuǎn)換的電視攝像管的靶面。 具有半導體性質(zhì)的非晶態(tài)材料。非晶態(tài)半導體是半導體的一個重要部分。50年代B.T.科洛米耶茨等人開始了對硫系玻璃的研究，當時很少有人注意，直到1968年S.R.奧弗申斯基關(guān)於用硫系薄膜制作開關(guān)器件的專利發(fā)表以后，才引起人們對非晶態(tài)半導體的興趣。1975年W.E.斯皮爾等人在硅烷輝光放電分解制備的非晶硅中實現(xiàn)了摻雜效應，使控制電導和制造PN結(jié)成為可能，從而為非晶硅材料的應用開辟了廣闊的前景。在理論方面，P.W.安德森和莫脫， N.F.建立了非晶態(tài)半導體的電子理論，并因而榮獲1977年的諾貝爾物理學獎。目前無論在理論方面，還是在應用方面，非晶態(tài)半導體的研究正在很快地發(fā)展著。 分類 目前主要的非晶態(tài)半導體有兩大類。 硫系玻璃。含硫族元素的非晶態(tài)半導體。例如As-Se、As-S，通常的制備方法是熔體冷卻或汽相沉積。 四面體鍵非晶態(tài)半導體。如非晶Si、Ge、GaAs等，此類材料的非晶態(tài)不能用熔體冷卻的辦法來獲得，只能用薄膜淀積的辦法(如蒸發(fā)、濺射、輝光放電或化學汽相淀積等)，只要襯底溫度足夠低，淀積的薄膜就是非晶態(tài)結(jié)構(gòu)。四面體鍵非晶態(tài)半導體材料的性質(zhì)，與制備的工藝方法和工藝條件密切相關(guān)。圖1 不同方法制備非晶硅的光吸收系數(shù)給出了不同制備工藝的非晶硅光吸收系數(shù)譜，其中a、b制備工藝是硅烷輝光放電分解，襯底溫度分別為500K和300K，c制備工藝是濺射，d制備工藝為蒸發(fā)。非晶硅的導電性質(zhì)和光電導性質(zhì)也與制備工藝密切相關(guān)。其實，硅烷輝光放電法制備的非晶硅中，含有大量H，有時又稱為非晶的硅氫合金；不同工藝條件，氫含量不同，直接影響到材料的性質(zhì)。與此相反，硫系玻璃的性質(zhì)與制備方法關(guān)系不大。圖2 汽相淀積濺射薄膜和熔體急冷成塊體AsSeTe的光吸收系數(shù)譜給出了一個典型的實例，用熔體冷卻和濺射的辦法制備的AsSeTe樣品，它們的光吸收系數(shù)譜具有相同的曲線。 非晶態(tài)半導體的電子結(jié)構(gòu)非晶態(tài)與晶態(tài)半導體具有類似的基本能帶結(jié)構(gòu)，也有導帶、價帶和禁帶(見固體的能帶)。材料的基本能帶結(jié)構(gòu)主要取決於原子附近的狀況，可以用化學鍵模型作定性的解釋。以四面體鍵的非晶Ge、Si為例，Ge、Si中四個價電子經(jīng)sp雜化，近鄰原子的價電子之間形成共價鍵，其成鍵態(tài)對應於價帶；反鍵態(tài)對應於導帶。無論是Ge、Si的晶態(tài)還是非晶態(tài)，基本結(jié)合方式是相同的，只是在非晶態(tài)中鍵角和鍵長有一定程度的畸變，因而它們的基本能帶結(jié)構(gòu)是相類似的。然而，非晶態(tài)半導體中的電子態(tài)與晶態(tài)比較也有著本質(zhì)的區(qū)別。晶態(tài)半導體的結(jié)構(gòu)是周期有序的，或者說具有平移對稱性，電子波函數(shù)是布洛赫函數(shù)，波矢是與平移對稱性相聯(lián)系的量子數(shù)，非晶態(tài)半導體不存在有周期性，不再是好的量子數(shù)。晶態(tài)半導體中電子的運動是比較自由的，電子運動的平均自由程遠大於原子間距；非晶態(tài)半導體中結(jié)構(gòu)缺陷的畸變使得電子的平均自由程大大減小，當平均自由程接近原子間距的數(shù)量級時，在晶態(tài)半導體中建立起來的電子漂移運動的概念就變得沒有意義了。非晶態(tài)半導體能帶邊態(tài)密度的變化不像晶態(tài)那樣陡，而是拖有不同程度的帶尾(如圖3 非晶態(tài)半導體的態(tài)密度與能量的關(guān)系所示)。非晶態(tài)半導體能帶中的電子態(tài)分為兩類：一類稱為擴展態(tài)，另一類為局域態(tài)。處在擴展態(tài)的每個電子，為整個固體所共有，可以在固體整個尺度內(nèi)找到；它在外場中運動類似於晶體中的電子；處在局域態(tài)的每個電子基本局限在某一區(qū)域，它的狀態(tài)波函數(shù)只能在圍繞某一點的一個不大尺度內(nèi)顯著不為零，它們需要靠聲子的協(xié)助，進行跳躍式導電。在一個能帶中，帶中心部分為擴展態(tài)，帶尾部分為局域態(tài)，它們之間有一分界處，如圖4 非晶態(tài)半導體的擴展態(tài)、局域態(tài)和遷移率邊中的和，這個分界處稱為遷移率邊。1960年莫脫首先提出了遷移率邊的概念。如果把遷移率看成是電子態(tài)能量的函數(shù)，莫脫認為在分界處和存在有遷移率的突變。局域態(tài)中的電子是跳躍式導電的，依靠與點陣振動交換能量，從一個局域態(tài)跳到另一個局域態(tài)，因而當溫度趨向0K時，局域態(tài)電子遷移率趨於零。擴展態(tài)中電子導電類似於晶體中的電子，當趨於0K時，遷移率趨向有限值。莫脫進一步認為遷移率邊對應於電子平均自由程接近於原子間距的情況，并定義這種情況下的電導率為最小金屬化電導率。然而，目前圍繞著遷移率邊和最小金屬化電導率仍有爭論。 缺陷 非晶態(tài)半導體與晶態(tài)相比較，其中存在大量的缺陷。這些缺陷在禁帶之中引入一系列局域能級，它們對非晶態(tài)半導體的電學和光學性質(zhì)有著重要的影響。四面體鍵非晶態(tài)半導體和硫系玻璃，這兩類非晶態(tài)半導體的缺陷有著顯著的差別。 非晶硅中的缺陷主要是空位、微空洞。硅原子外層有四個價電子，正常情況應與近鄰的四個硅原子形成四個共價鍵。存在有空位和微空洞使得有些硅原子周圍四個近鄰原子不足，而產(chǎn)生一些懸掛鍵，在中性懸掛鍵上有一個未成鍵的電子。懸掛鍵還有兩種可能的帶電狀態(tài)：釋放未成鍵的電子成為正電中心，這是施主態(tài)；接受第二個電子成為負電中心，這是受主態(tài)。它們對應的能級在禁帶之中，分別稱為施主和受主能級。因為受主態(tài)表示懸掛鍵上有兩個電子占據(jù)的情況，兩個電子間的庫侖排斥作用，使得受主能級位置高於施主能級，稱為正相關(guān)能。因此在一般情況下，懸掛鍵保持只有一個電子占據(jù)的中性狀態(tài)，在實驗中觀察到懸掛鍵上未配對電子的自旋共振。1975年斯皮爾等人利用硅烷輝光放電的方法，首先實現(xiàn)非晶硅的摻雜效應，就是因為用這種辦法制備的非晶硅中含有大量的氫，氫與懸掛鍵結(jié)合大大減少了缺陷態(tài)的數(shù)目。這些缺陷同時是有效的復合中心。為了提高非平衡載流子的壽命，也必須降低缺陷態(tài)密度。因此，控制非晶硅中的缺陷，成為目前材料制備中的關(guān)鍵問題之一。 硫系玻璃中缺陷的形式不是簡單的懸掛鍵，而是“換價對”。最初，人們發(fā)現(xiàn)硫系玻璃與非晶硅不同，觀察不到缺陷態(tài)上電子的自旋共振，針對這表面上的反?，F(xiàn)象，莫脫等人根據(jù)安德森的負相關(guān)能的設(shè)想，提出了MDS模型。當缺陷態(tài)上占據(jù)兩個電子時，會引起點陣的畸變，若由於畸變降低的能量超過電子間庫侖排斥作用能，則表現(xiàn)出有負的相關(guān)能，這就意味著受主能級位於施主能級之下。用 D、D、D 分別代表缺陷上不占有、占有一個、占有兩個電子的狀態(tài)，負相關(guān)能意味著： 2D —→ D+D 是放熱的。因而缺陷主要以D、D形式存在，不存在未配對電子，所以沒有電子的自旋共振。不少人對D、D、D缺陷的結(jié)構(gòu)作了分析。以非晶態(tài)硒為例，硒有六個價電子，可以形成兩個共價鍵，通常呈鏈狀結(jié)構(gòu)，另外有兩個未成鍵的 p電子稱為孤對電子。在鏈的端點處相當於有一個中性懸掛鍵，這個懸掛鍵很可能發(fā)生畸變，與鄰近的孤對電子成鍵并放出一個電子(形成D)，放出的電子與另一懸掛鍵結(jié)合成一對孤對電子(形成D)，如圖 5 硫系玻璃的換價對所示。因此又稱這種D、D為換價對。由於庫侖吸引作用，使得D、D通常是成對地緊密靠在一起，形成緊密換價對。硫系玻璃中成鍵方式只要有很小變化就可以形成一組緊密換價對，如圖6 換價對的自增強效應所示，它只需很小的能量，有自增強效應，因而這種缺陷的濃度通常是很高的。利用換價對模型可以解釋硫?qū)俜蔷B(tài)半導體的光致發(fā)光光譜、光致電子自旋共振等一系列實驗現(xiàn)象。 應用 非晶態(tài)半導體在技術(shù)領(lǐng)域中的應用存在著很大的潛力，非晶硫早已廣泛應用在復印技術(shù)中，由S.R.奧夫辛斯基首創(chuàng)的 As-Te-Ge-Si系玻璃半導體制作的電可改寫主讀存儲器已有商品生產(chǎn)，利用光脈沖使碲微晶薄膜玻璃化這種性質(zhì)制作的光存儲器正在研制之中。對於非晶硅的應用目前研究最多的是太陽能電池。非晶硅比晶體硅制備工藝簡單，易於做成大面積，非晶硅對於太陽光的吸收效率高，器件只需大約1微米厚的薄膜材料，因此，可望做成一種廉價的太陽能電池，現(xiàn)已受到能源專家的重視。最近已有人試驗把非晶硅場效應晶體管用於液晶顯示和集成電路。