為什么薄膜太陽(yáng)能電池金屬電極不采用絲網(wǎng)印刷?

【專家解說(shuō)】：濺射方式工藝上更容易控制厚度，可以很均勻，很薄 濺射工藝 - 以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面，使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態(tài)下進(jìn)行。 濺射用的轟擊粒子通常是帶正電荷的惰性氣體離子，用得最多的是氬離子。氬電離后，氬離子在電場(chǎng)加速下獲得動(dòng)能轟擊靶極。當(dāng)氬離子能量低于5電子伏時(shí),僅對(duì)靶極最外表層產(chǎn)生作用，主要使靶極表面原來(lái)吸附的雜質(zhì)脫附。當(dāng)氬離子能量達(dá)到靶極原子的結(jié)合能(約為靶極材料的升華熱)時(shí)，引起靶極表面的原子遷移，產(chǎn)生表面損傷。轟擊粒子的能量超過(guò)靶極材料升華熱的四倍時(shí)，原子被推出晶格位置成為汽相逸出而產(chǎn)生濺射。對(duì)于大多數(shù)金屬，濺射閾能約為10~25電子伏。 濺射產(chǎn)額，即單位入射離子轟擊靶極濺出原子的平均數(shù)，與入射離子的能量有關(guān)。在閾能附近濺射，產(chǎn)額只有10-5~10-4個(gè)原子/離子，隨著入射離子能量的增加，濺射產(chǎn)額按指數(shù)上升。當(dāng)離子能量為103~104電子伏時(shí)，濺射產(chǎn)額達(dá)到一個(gè)穩(wěn)定的極大值;能量超過(guò)104電子伏時(shí)，由于出現(xiàn)明顯的離子注入現(xiàn)象而導(dǎo)致濺射產(chǎn)額下降。濺射產(chǎn)額還與靶極材料、原子結(jié)合能、晶格結(jié)構(gòu)和晶體取向等有關(guān)。一般說(shuō)來(lái)，單金屬的濺射產(chǎn)額高于它的合金;在絕緣材料中，非晶體濺射產(chǎn)額最高，單晶其次，復(fù)合晶體最低。