提高太陽(yáng)能集熱管磁控濺射鍍膜沉積速率的研究

【摘要】：工業(yè)上用磁控濺射技術(shù)為太陽(yáng)能集熱管制備Al-N/Al選擇性吸收涂層,這種吸收涂層最外層為AlN介質(zhì)減反層。在開(kāi)環(huán)N2流量控制模式下,存在濺射制備AlN介質(zhì)減反層沉積速率低的缺點(diǎn)。本文依據(jù)氣相化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)理論,薄膜的沉積率正比于反應(yīng)氣體的濃度,提出了一種提高制備AlN陶瓷減反層沉積速率的方法。該方法將直流濺射靶電壓反饋至模糊控制器,控制N2流量大小,讓磁控濺射鍍膜機(jī)穩(wěn)定工作在拐點(diǎn)電壓附近,實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射恒電壓控制。并且采用單片機(jī)技術(shù)制作了樣機(jī),在SCS-700A型太陽(yáng)能集熱管鍍膜機(jī)中使用,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,鍍膜沉積速率提高了4倍以上,整個(gè)系統(tǒng)工作穩(wěn)定。 【作者單位】： 南華大學(xué)電氣工程學(xué)院;南華大學(xué)數(shù)理學(xué)院;衡陽(yáng)市真空機(jī)電設(shè)備有限公司;
【關(guān)鍵詞】： 磁控濺射 太陽(yáng)能集熱管 選擇性吸收涂層 沉積速率 鍍膜 模糊控制 恒電壓控制
【基金】：科技部中小企業(yè)創(chuàng)新基金(No.07C26214301755)
【分類(lèi)號(hào)】：TN305.92
【正文快照】： 太陽(yáng)能是可再生的清潔能源,人類(lèi)在不斷研究它的利用方式,特別是在全球環(huán)境變暖的大環(huán)境下,這一問(wèn)題變得更加突出。目前我國(guó)太陽(yáng)能光熱利用主要是通過(guò)全真空玻璃集熱管把太陽(yáng)能轉(zhuǎn)換為熱能形式加以直接利用,其中真空集熱管是重要的一種太陽(yáng)能光熱利用部件。制備符合國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T

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