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采用射頻熱等離子體合成Ni-CeO_2催化劑用于甲烷部分氧化(英文)

來源:論文學術網
時間:2024-08-18 17:48:36
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采用射頻熱等離子體合成Ni-CeO_2催化劑用于甲烷部分氧化(英文)【摘要】:采用射頻熱等離子體制備了Ni含量為50 mol%的Ni-CeO_2催化劑,考察了其在甲烷部分氧化反應中

【摘要】:采用射頻熱等離子體制備了Ni含量為50 mol%的Ni-CeO_2催化劑,考察了其在甲烷部分氧化反應中的催化活性.在催化劑制備過程中,采用板功率為52 kVA的射頻等離子體火炬將Ni(直徑約5μm)和CeO_2粉末(直徑約200 nm)混合物同時加熱,粉末添加速率約為120 g/h.X射線衍射和透射電鏡表征結果表明,所用前驅體形成了高結晶的CeO_2載體,其表面Ni顆粒的粒徑較小(50 nm).在常壓、500 oC以上、反應物中CH_4:O_2=2:1(摩爾比),并用Ar稀釋的條件下考察了所制樣品的甲烷部分氧化反應性能.結果表明,盡管所制樣品中Ni含量較高(~50 mol%),但在550 oC反應24 h后,甲烷轉化率為70%以上,CO和H_2選擇性大于90%,有少量積碳.然而,在750 oC反應24 h時,催化劑表面形成了絲狀碳,甲烷轉化率升至90%以上. 【作者單位】: 韓國全北國立大學應用等離子體工程系;韓國全北國立大學量子系統(tǒng)工程系;
【關鍵詞】射頻熱等離子體 甲烷 部分氧化 鎳催化劑 氧化鈰 積碳
【基金】:supported by Renewable Energy Technologies Development Program(No.2008NFC02J0200002009) Technology Innovation Program(No.10048910)funded by the Ministry of Trade,Industry and Energy(MI,Korea)
【分類號】:O643.36
【正文快照】: 1.IntroductionThermal plasmas have attracted attention as a heat sourcefor the preparation of nanosized powders[1–5].As an ionizedflow with temperatures of3000°C[6,7],the massive enthalpiesof thermal plasmas enable the microsized metal precursorto eva

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