太陽能級Si片清洗工藝分析

【摘要】：在實驗基礎(chǔ)上對太陽能級Si片堿性清洗工藝進(jìn)行了分析,指出堿性清洗液在適宜的工藝環(huán)境下,配合超聲清洗和表面活性劑的使用可以獲得良好的清洗效果。結(jié)果表明,表面金屬濃度分別達(dá)到Cu元素小于1.3×10~(14)atoms/cm~2,Fe元素小于5×10~(13)atoms/cm~2。堿性清洗液與Si晶體發(fā)生兩步化學(xué)反應(yīng),平衡后OH~-離子濃度保持穩(wěn)定,是以獲得穩(wěn)定的清洗效果同時提高清洗液的使用效率。 【作者單位】： 河北工業(yè)大學(xué)化工學(xué)院;河北工業(yè)大學(xué)材料學(xué)院;中國電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所;
【關(guān)鍵詞】： 硅片 堿性清洗 表面活性劑 超聲清洗 對太陽能級
【分類號】：TN305.2
【正文快照】： O引言隨著光伏產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，太陽能用Si片質(zhì)量要求也愈加嚴(yán)格。清洗作為制備太陽能用Si片的關(guān)鍵步驟，對Si片質(zhì)量，包括叨四、Ra、表面金屬濃度等乃至后續(xù)的制絨工藝都有至關(guān)重要的影響。Si片表面沾污主要是有機(jī)物沾污，顆粒沾污以及金屬離子沾污，如Cu，F(xiàn)e，Na等。Fe的擴(kuò)

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