Al-AlN太陽能選擇性吸收涂層的中頻濺射工藝研究

【摘要】：探討了AlN膜和漸變Al-AlN選擇性吸收涂層的中頻濺射技術(shù),結(jié)果表明:增大鋁靶電流或減小氬氣流量有助于改善AlN反應(yīng)濺射的工藝穩(wěn)定性;隨著氮?dú)饬髁康脑黾?AlN膜的N/Al原子比增大,減小氬氣流量或增大鋁靶電流對制備滿足理想化學(xué)計量比的AlN膜有利;AlN膜的致密性隨氮?dú)饬髁亢弯X靶電流的增大而改善,但氬氣流量對AlN致密性沒有明顯影響;制備的漸變Al-AlN選擇性吸收涂層可見光反射率低于6%。光譜選擇性較好。 【作者單位】： 中國地質(zhì)大學(xué)(北京)工程技術(shù)學(xué)院;清華大學(xué)核能與新能源技術(shù)研究院精細(xì)陶瓷北京市重點(diǎn)實(shí)驗室;
【關(guān)鍵詞】： Al-AlN 選擇性吸收涂層 中頻反應(yīng)濺射 工藝參數(shù)
【基金】：教育部科學(xué)技術(shù)研究重點(diǎn)項目(108026) 廣西科學(xué)研究與技術(shù)開發(fā)計劃項目(桂科攻0991009-9) 中央高校基本科研業(yè)務(wù)費(fèi)專項資金(2010ZY36) 清華大學(xué)實(shí)驗室開放基金(LF20114493)
【分類號】：TB43
【正文快照】： 0引言選擇性吸收涂層可以提高太陽光-熱轉(zhuǎn)化裝置的集熱溫度和光-熱轉(zhuǎn)化效率,是太陽能熱利用的一項關(guān)鍵技術(shù)[1]。目前常用的漸變金屬-介質(zhì)選擇性吸收涂層的制備方法以直流反應(yīng)濺射為主[2,3],在鍍膜過程中容易出現(xiàn)打火、陽極消失等現(xiàn)象[4],導(dǎo)致鍍膜工藝不穩(wěn)定、膜層質(zhì)量受影響,

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