二氧化鈦太陽(yáng)能電池減反射膜結(jié)構(gòu)和光學(xué)特性

【摘要】：用濺射功率為100~500 W的直流反應(yīng)磁控濺射法制備出不同結(jié)構(gòu)與特性的TiO2薄膜樣品;采用原子力顯微鏡(AFM)、X線衍射儀(XRD)、傅里葉紅外光譜(FTIR)和紫外可見(jiàn)光分光光度計(jì)對(duì)薄膜的形貌、結(jié)構(gòu)及光學(xué)特性進(jìn)行表征;研究濺射功率對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)、形貌及光學(xué)特性的影響。研究結(jié)果表明:沉積態(tài)薄膜均為無(wú)序結(jié)構(gòu),氧化物濺射模式下沉積的薄膜為透明狀態(tài),金屬模式下沉積的薄膜不透明,TiO2薄膜的折射率隨著濺射功率變化在1.8~2.3之間變化;在低功率制備的沉積態(tài)薄膜存在TiO0.5微晶,它使薄膜樣品的透過(guò)率降低,這主要是TiO0.5微晶對(duì)光波的強(qiáng)烈吸收所致;400 W濺射功率下制備出適合太陽(yáng)能電池減反射膜應(yīng)用的透過(guò)率高及折射率大的TiO2減反膜。 【作者單位】： 中南大學(xué)能源科學(xué)與工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 二氧化鈦 直流反應(yīng)磁控濺射 濺射功率 減反射薄膜 光學(xué)特性
【基金】：湖南省重大科技專(zhuān)項(xiàng)項(xiàng)目(08FJ1002)
【分類(lèi)號(hào)】：O484.41;TM914.42
【正文快照】： 由于硅的折射系數(shù)(n~3.5)[1]與空氣的折射系數(shù)相差很大,光波在界面處的反射成為影響太陽(yáng)能電池效率的重要因素,因此,必須在電池表面加鍍減反射膜。減反膜可分為單層/多層四分之一波長(zhǎng)減反膜[2]和梯度折射率減反膜[3]。單層/多層四分之一波長(zhǎng)減反膜是利用光的相消干涉,通過(guò)選

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