TiAlN/SiO_2太陽(yáng)能選擇性吸收薄膜的制備與研究
TiAlN/SiO_2太陽(yáng)能選擇性吸收薄膜的制備與研究【摘要】:采用直流磁控濺射法在銅基底上制備了TiAlN/SiO2選擇性吸收薄膜。通過調(diào)整制備過程中的工藝參數(shù),得到優(yōu)化后的組合
【關(guān)鍵詞】: 選擇性吸收薄膜 吸收率 發(fā)射率 熱穩(wěn)定性
【基金】:國(guó)家科技支撐計(jì)劃(2012BAE02B01) 寧波市自然基金(2009A610008) 寧波市科技創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)先進(jìn)涂層與薄膜材料(2011B81001)
【分類號(hào)】:TB383.2
【正文快照】: 太陽(yáng)輻射能主要集中在可見光和近紅外波長(zhǎng)范圍內(nèi)(0.3~2.5μm)。對(duì)于一個(gè)受熱物體而言,輻射主要在大于2.5μm的紅外區(qū)域。如果某種材料對(duì)于太陽(yáng)輻射能中的可見光和近紅外波段有高的吸收,而自身受熱時(shí)向外輻射的能量很小,那么這種材料即具備選擇吸收性。通過轉(zhuǎn)換裝置把太陽(yáng)輻
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