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TiAlN/SiO_2太陽(yáng)能選擇性吸收薄膜的制備與研究

來源:論文學(xué)術(shù)網(wǎng)
時(shí)間:2024-08-18 16:01:11
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TiAlN/SiO_2太陽(yáng)能選擇性吸收薄膜的制備與研究【摘要】:采用直流磁控濺射法在銅基底上制備了TiAlN/SiO2選擇性吸收薄膜。通過調(diào)整制備過程中的工藝參數(shù),得到優(yōu)化后的組合

【摘要】:采用直流磁控濺射法在銅基底上制備了TiAlN/SiO2選擇性吸收薄膜。通過調(diào)整制備過程中的工藝參數(shù),得到優(yōu)化后的組合薄膜(銅基底),其吸收率可達(dá)0.92、發(fā)射率為0.06。在此組合膜系中,TiAlN為吸收層,SiO2為減反層。對(duì)基底為銅片的樣品在550℃退火2h,其性質(zhì)保持穩(wěn)定,表明TiAlN/SiO2組合薄膜在高溫太陽(yáng)能選擇性吸收領(lǐng)域具有一定的應(yīng)用前景。 【作者單位】: 中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所;
【關(guān)鍵詞】選擇性吸收薄膜 吸收率 發(fā)射率 熱穩(wěn)定性
【基金】:國(guó)家科技支撐計(jì)劃(2012BAE02B01) 寧波市自然基金(2009A610008) 寧波市科技創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)先進(jìn)涂層與薄膜材料(2011B81001)
【分類號(hào)】:TB383.2
【正文快照】: 太陽(yáng)輻射能主要集中在可見光和近紅外波長(zhǎng)范圍內(nèi)(0.3~2.5μm)。對(duì)于一個(gè)受熱物體而言,輻射主要在大于2.5μm的紅外區(qū)域。如果某種材料對(duì)于太陽(yáng)輻射能中的可見光和近紅外波段有高的吸收,而自身受熱時(shí)向外輻射的能量很小,那么這種材料即具備選擇吸收性。通過轉(zhuǎn)換裝置把太陽(yáng)輻

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