基底對TiN_xO_y太陽能選擇性吸收薄膜性能的影響

【摘要】：采用磁控濺射法,分別在銅基、鋁基上制備AlN/TiNxOy/Al多層膜,對比了該膜系與銅基和鋁基的粘附性能,分析了與基底粘附性能的差異原因。采用二次陽極氧化方法使鋁基底表面形成多孔微結構,再次鍍多層膜,表征了膜系的表面形貌、光譜吸收性能和反射率,研究了微結構對薄膜性能的影響。結果表明:薄膜與鋁基的粘附性較好,基底表面形成多孔微結構能有效提高其光譜吸收率。 【作者單位】： 江蘇大學微納米研究中心;江蘇技術師范學院機械與汽車學院;常州大學低維材料微納器件與系統(tǒng)中心;
【關鍵詞】： TiNxOy薄膜 太陽能 光譜性能 粘附性 基底多孔結構
【基金】：江蘇省太陽能電池材料與技術重點實驗室開放課題(201103) 江蘇技術師范學院科研基金項目(KYY10058)
【分類號】：TG174.44
【正文快照】： 當今,全球能源形勢緊張,環(huán)境污染嚴重,經(jīng)濟的發(fā)展以及人類的健康問題倍受關注,尋求清潔新能源勢在必行。太陽能是一種取之不盡、用之不竭的清潔能源,開發(fā)及綜合利用太陽能的研究已是社會當前和長遠發(fā)展的需要,也是眾多科技工作者深感興趣的重大研究課題[1]。在對太陽能的利用

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