清洗高潔凈度設(shè)備工程技術(shù)——以多晶硅工藝設(shè)備清潔為例

【摘要】：在電子制造及其它一些高新技術(shù)行業(yè),對(duì)設(shè)備的潔凈度要求都非常高;以多晶硅提純裝置的清潔工程為實(shí)例,闡述了高潔凈度設(shè)備清洗系統(tǒng)的工藝流程與操作方法。 【作者單位】： 南京市住建委;中建工業(yè)設(shè)備安裝公司;
【關(guān)鍵詞】： 清洗 循環(huán) 浸泡 擦拭 純水沖洗 干燥
【分類號(hào)】：X38
【正文快照】： 1工程概況多晶硅生產(chǎn)裝置具有化工、冶金、電子三個(gè)行業(yè)的特點(diǎn),工藝系統(tǒng)要求無油、無水、無塵、無泄露,是一個(gè)工藝復(fù)雜、設(shè)備種類眾多、對(duì)潔凈度有很高要求的硅提純系統(tǒng)。本清洗工藝適用于多晶硅生產(chǎn)裝置中的塔器、容器、反應(yīng)器、換熱器、還原爐以及泵類設(shè)備的清洗,并適用于

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