一種輝銻礦濕法清潔冶金新工藝

【摘要】：介紹了一種輝銻礦濕法清潔冶金新工藝。新工藝包括浸出、凈化、隔膜電積等主要工序。考察了隔膜電解工序溫度、添加劑種類(lèi)及濃度、[Sb3+]和電流密度對(duì)沉積銻的形貌和質(zhì)量的影響。優(yōu)化試驗(yàn)結(jié)果表明:在溫度45℃,[Sb3+]=70 g/L、[H+]=4 mol/L、[Cl-]=5.8 mol/L、[NaCl]=40 g/L、電流密度250 A/m2條件下,可獲得表面形貌良好的陰極銻,陰極電流效率99%,噸銻電耗約1 200 kWh。以隔膜電積陽(yáng)極室生成的SbCl5為氧化劑,在溫度85℃、[H+]=3.5 mol/L、液固體積質(zhì)量比8∶1、氧化劑過(guò)量系數(shù)為理論量的1.1倍、浸出時(shí)間1.5 h條件下對(duì)輝銻礦進(jìn)行氧化浸出,銻浸出率達(dá)99.5%。 【作者單位】： 江西省環(huán)境工程職業(yè)學(xué)院;中南大學(xué)冶金科學(xué)與工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 輝銻礦 電積 凈化 濕法冶金 新工藝
【分類(lèi)號(hào)】：TF818
【正文快照】： 我國(guó)礦山銻產(chǎn)量占全球的85%以上,居世界第一。在我國(guó)有色金屬生產(chǎn)中,硫化礦冶煉過(guò)程產(chǎn)生的低濃度二氧化硫煙氣一直是我國(guó)酸雨的重要來(lái)源之一。硫化銻礦冶煉因規(guī)模較小、硫化銻易揮發(fā)、大多采用傳統(tǒng)的揮發(fā)熔煉(焙燒)—還原熔煉工藝、少部分采用濕法工藝而仍存在低濃度二氧化硫

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