激光刻圖在制造 a-Si 光伏器件中的應(yīng)用

【摘要】：描述了在集成型 a-Si 光伏器件的制造中,利用高功率激光束進行刻圖的新方法。作為激光刻圖中材料除去的模型,被刻蝕材料的蒸汽壓對材料除去會帶來很大的影響。在制備 a-Si 光伏器件中,側(cè)邊接觸的器件結(jié)構(gòu)對激光刻圖技術(shù)是很合適的。激光的平均功率或激勵電流,重復(fù)頻率、焦距和掃描速度是激光刻圖技術(shù)的基本參數(shù)。我們列出了刻蝕 TCO、a-Si 和背電極薄膜的一些刻蝕條件,可以發(fā)現(xiàn)要刻蝕不同的薄膜,需控制這些條件以達到最佳化。 【作者單位】： 中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所 中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所
【關(guān)鍵詞】： 激光刻圖 a-Si 光伏器件 側(cè)邊接觸 透明導(dǎo)電薄膜 非晶硅 背電極
【正文快照】： 下、月詠 激光刻蝕是二·種無掩?？虉D法,;能矢尖裔花集成光祝器律丫藝中刻蝕成圖工序,’‘特別對大面積:低成本的光伏錢件的制造具有較明晃的優(yōu)點t‘’。 一手終模鉀于對大幣積的器崢u造是!良有呢護嚇*「目前簿模卿叮一股能做xlJ.’竺mm,再大就比一較困難。對于面積較大的掩

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