六氟乙烷的制備及純化方法概述

【摘要】：六氟乙烷主要用作集成電路的蝕刻氣體和清洗氣體,介紹了幾種六氟乙烷的制備方法和純化方法。 【作者單位】： 佛山市華特氣體有限公司;
【關(guān)鍵詞】： 六氟乙烷 制備 純化 HFCs 含氯化合物
【分類號(hào)】：TQ222.23
【正文快照】： 六氟乙烷在半導(dǎo)體與微電子工業(yè)中用作等離子蝕刻氣體、器件表面清洗劑,還可用于光纖生產(chǎn)與低溫制冷。因其具有無毒無臭、高穩(wěn)定性而被廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體制造過程中,例如作為蝕刻劑(DryEtch)、化學(xué)氣相沉積(CVD,Chemical Vapor Deposi-tion)后的清洗氣體,在等離子工藝中作為二

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