太陽能選擇性吸收涂層新材料的研究

【摘要】：正利用直流磁控反應(yīng)濺射方法,以鋁合金(LYI3)為靶材.空氣為反應(yīng)氣體制備了太陽光譜選擇性吸收層及減反射層,寫成Al_xO_y-AIN_x/AI_xO_y-AIN_x-AI/AI形式.實驗發(fā)現(xiàn),用空氣制備的減反射涂層其折射率n=165～175,消光系數(shù)k≈0減反射效果比AIN更好.控制氬氣和空氣流量的比例.制備 【作者單位】：清華大學(xué)電子工程系 清華大學(xué)電子工程系 清華大學(xué)電子工程系
【分類號】：TB34
【正文快照】： 利J釘卣流磁控反應(yīng)濺射方法,以鋁合金fLYl3)為靶材.空氣為反應(yīng)氣體制備了太陽光譜選擇性吸收層及減反射層,寫成Alx0,.AIN。/AI。0,.AIN、.AI/AI形式。實驗發(fā)現(xiàn),用空氣制備的減反射涂層其折射率n=1.65～1.75,消光系數(shù)k≈0減反射效果比AlN更好?？刂茪鍤夂涂諝饬髁康谋萅.~IJi0

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