磁控濺射制備W-Al_2O_3太陽(yáng)能選擇性吸收涂層

【摘要】：正采用全封閉磁場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù),制備金屬W、金屬/氧化物Al_2O_3共生涂層、Al_2O_3陶瓷減反射涂層的新型膜系。采用橢偏儀和Bruggeman理論計(jì)算確定各個(gè)膜層的光學(xué)特性(折射率和消光系數(shù)),測(cè)量吸收系數(shù)和發(fā)射率,應(yīng)用TFC光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)程序設(shè)計(jì)新型膜系,采用 【作者單位】：大連交通大學(xué) 東莞康達(dá)機(jī)電公司 大連理工大學(xué)
【關(guān)鍵詞】：太陽(yáng)能 涂層 W-Al_O_ 磁控濺射
【分類號(hào)】：TB383.2
【正文快照】： 采用全封閉磁場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)，制備金屬w、金屬/氧化物A1203共生涂層、Al刃3陶瓷減反射涂層的新型膜系。采用橢偏儀和Bruggeman理論計(jì)算確定各個(gè)膜層的光學(xué)特性(折射率和消光系數(shù));測(cè)量吸收系數(shù)和發(fā)射率，應(yīng)用TFC光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)程序設(shè)計(jì)新型膜系，采用試驗(yàn)和返演方法優(yōu)化

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