氟基容性耦合等離子體診斷以及在多晶硅太陽能電池制絨中的應(yīng)用研究
氟基容性耦合等離子體診斷以及在多晶硅太陽能電池制絨中的應(yīng)用研究【摘要】:強電負性的氟基等離子體是有望替代多晶硅電池片表面濕法制絨的干法制絨技術(shù),然而氟基等離子體電學(xué)特性以及多晶硅干
【學(xué)位授予單位】:蘇州大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2012
【分類號】:TM914.4
【目錄】:
- 中文摘要4-6
- Abstract6-8
- 目錄8-10
- 第一章 緒論10-25
- 1.1 研究背景10-11
- 1.2 低溫等離子體簡介11-13
- 1.3 晶體硅太陽能電池工作原理及制作流程13-20
- 1.4 多晶硅太陽能電池絨面制備的研究現(xiàn)狀20-23
- 1.5 本文研究的意義和主要內(nèi)容23-25
- 第二章 實驗設(shè)備與氟基等離子體診斷方法25-32
- 2.1 雙頻激發(fā)容性耦合等離子體實驗裝置25-26
- 2.2 氟基等離子體診斷技術(shù)26-32
- 2.2.1 微波共振探針診斷技術(shù)26-28
- 2.2.2 發(fā)射光譜診斷技術(shù)28-32
- 第三章 氟基等離子體電子密度的測量32-42
- 3.1 微波共振探針與朗謬爾雙探針對 Ar 等離子體密度的測量結(jié)果比較33-35
- 3.2 采用微波共振探針測量 SF6通入到 Ar 等離子體后對其電子密度的影響35-37
- 3.3 采用微波共振探針測量 SF6/O_2容性耦合等離子體電子密度37-42
- 第四章 氟基等離子體發(fā)射光譜強度測量42-50
- 4.1 氣體流量比對 SF6/O_2容性耦合等離子體發(fā)射光譜強度的影響43-45
- 4.2 放電氣壓對 SF6/O_2容性耦合等離子體發(fā)射光譜強度的影響45-47
- 4.3 射頻輸入功率對 SF6/O_2容性耦合等離子體發(fā)射光譜強度的影響47-50
- 第五章 等離子體干法刻蝕制備多晶硅電池片絨面的研究50-65
- 5.1 等離子體干法刻蝕去除多晶硅表面線切割損傷層50-52
- 5.2 等離子體干法刻蝕制備多晶硅電池片絨面52-65
- 5.2.1 刻蝕氣體(SF6/O_2)流量比對制絨效果的的影響52-55
- 5.2.2 放電氣壓對制絨效果的的影響55-57
- 5.2.3 不同低頻輸入功率對制絨效果的的影響57-60
- 5.2.4 等離子體制絨的內(nèi)在機制分析60-65
- 第六章 結(jié)論65-67
- 參考文獻67-72
- 攻讀碩士期間公開發(fā)表的論文與專利72-73
- 致謝73-74
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