超聲噴霧熱解法太陽(yáng)能電池用CuInS_2及In_2S_3薄膜材料的制備與性能研究
超聲噴霧熱解法太陽(yáng)能電池用CuInS_2及In_2S_3薄膜材料的制備與性能研究【摘要】:能源是人類社會(huì)生存與發(fā)展的基礎(chǔ)之一。傳統(tǒng)能源的使用對(duì)環(huán)境造成了很大的破壞,在這一背景下,太
【學(xué)位授予單位】:桂林電子科技大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2011
【分類號(hào)】:TM914.4
【目錄】:
- 摘要3-4
- Abstract4-9
- 第一章 緒論9-21
- 1.1 引言9
- 1.2 太陽(yáng)能電池的發(fā)展概況9-10
- 1.3 太陽(yáng)能電池原理10
- 1.4 薄膜太陽(yáng)電池的發(fā)展概況10-12
- 1.5 CuInS_2 薄膜材料的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)12-14
- 1.6 CuInS_2 薄膜太陽(yáng)能電池的發(fā)展歷程14-16
- 1.7 CuInS_2 薄膜的主要制備方法16-19
- 1.8 緩沖層In_2S_3 薄膜研究概況19
- 1.9 本論文的研究意義和研究?jī)?nèi)容19-21
- 1.9.1 論文的研究意義19-20
- 1.9.2 研究?jī)?nèi)容20-21
- 第二章 薄膜的制備過程及性能表征21-26
- 2.1 超聲噴霧熱解法制備CuInS_2 薄膜21-24
- 2.1.1 超聲噴霧熱解法設(shè)備21-22
- 2.1.2 實(shí)驗(yàn)試劑和實(shí)驗(yàn)儀器22-23
- 2.1.3 襯底的清洗23
- 2.1.4 薄膜樣品的制備過程23-24
- 2.2 薄膜性能表征測(cè)試設(shè)備24-26
- 2.2.1 X 射線衍射分析(XRD)24
- 2.2.2 掃描電子顯微鏡分析24
- 2.2.3 紫外-可見光分光光度計(jì)24-25
- 2.2.4 電學(xué)性能的四探針法測(cè)量25-26
- 第三章 超聲噴霧熱解法CuInS_2 薄膜的制備與性能研究26-47
- 3.1 噴口-襯底距離對(duì)CuInS_2 薄膜結(jié)構(gòu)和形貌的影響26-28
- 3.2 沉積時(shí)間對(duì)CuInS_2 薄膜結(jié)構(gòu)和形貌的影響28-30
- 3.3 襯底溫度對(duì)CuInS_2 薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響30-35
- 3.3.1 襯底溫度對(duì)CuInS_2 薄膜結(jié)構(gòu)的影響31-32
- 3.3.2 襯底溫度對(duì)CuInS_2 薄膜形貌的影響32-33
- 3.3.3 襯底溫度對(duì)CuInS_2 薄膜電性能的影響33-34
- 3.3.4 襯底溫度對(duì)CuInS_2 薄膜光性能的影響34-35
- 3.4 Cu/In 原子比對(duì)CuInS_2 薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響35-41
- 3.4.1 Cu/In 原子比對(duì)CuInS_2 薄膜結(jié)構(gòu)的影響35-37
- 3.4.2 Cu/In 原子比對(duì)CuInS_2 薄膜組分的影響37
- 3.4.3 Cu/In 原子比對(duì)CuInS_2 薄膜形貌的影響37-38
- 3.4.4 Cu/In 原子比對(duì)CuInS_2 薄膜電性能的影響38-39
- 3.4.5 Cu/In 原子比對(duì)CuInS_2 薄膜光性能的影響39-41
- 3.5 退火溫度對(duì)CuInS_2 薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響41-45
- 3.5.1 退火溫度對(duì)CuInS_2 薄膜結(jié)構(gòu)的影響41-42
- 3.5.2 退火溫度對(duì)CuInS_2 薄膜形貌的影響42-43
- 3.5.3 退火溫度對(duì)CuInS_2 薄膜電性能的影響43-44
- 3.5.4 退火溫度對(duì)CuInS_2 薄膜光性能的影響44-45
- 3.6 本章小結(jié)45-47
- 第四章 超聲噴霧熱解法In_2S_3 薄膜的制備與性能研究47-61
- 4.1 襯底溫度對(duì)In_2S_3 薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響47-51
- 4.1.1 襯底溫度對(duì)In_2S_3 薄膜結(jié)構(gòu)的影響47-48
- 4.1.2 襯底溫度對(duì)In_2S_3 薄膜形貌的影響48-49
- 4.1.3 襯底溫度對(duì)In_2S_3 薄膜電性能的影響49-50
- 4.1.4 襯底溫度對(duì)In_2S_3 薄膜光性能的影響50-51
- 4.2 S/In 比對(duì)In_2S_3 薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響51-55
- 4.2.1 S/In 比對(duì)In_2S_3 薄膜結(jié)構(gòu)的影響51-52
- 4.2.2 S/In 比對(duì)In_2S_3 薄膜形貌的影響52-53
- 4.2.3 S/In 比對(duì)In_2S_3 薄膜組分的影響53-54
- 4.2.4 S/In 比對(duì)In_2S_3 薄膜電性能的影響54
- 4.2.5 S/In 比對(duì)In_2S_3 薄膜光性能的影響54-55
- 4.3 退火溫度對(duì)In_2S_3 薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響55-60
- 4.3.1 退火溫度對(duì)In_2S_3 薄膜結(jié)構(gòu)的影響56-57
- 4.3.2 退火溫度對(duì)In_2S_3 薄膜形貌的影響57-58
- 4.3.3 退火溫度對(duì)In_2S_3 薄膜電性能的影響58-59
- 4.3.4 退火溫度對(duì)In_2S_3 薄膜光性能的影響59-60
- 4.4 本章小結(jié)60-61
- 第五章 超聲噴霧熱解法CuInS_2/In_2S_3 異質(zhì)結(jié)的制備與性能研究61-65
- 5.1 樣品的制備61
- 5.2 電極的制備61-62
- 5.3 結(jié)果與討論62-64
- 5.3.1 CuInS_2/In_2S_3 異質(zhì)結(jié)薄膜的結(jié)構(gòu)分析62
- 5.3.2 CuInS_2/In_2S_3 異質(zhì)結(jié)的性能測(cè)試62-64
- 5.4 本章小結(jié)64-65
- 第六章 總結(jié)與展望65-67
- 6.1 總結(jié)65-66
- 6.2 對(duì)后續(xù)工作的展望和建議66-67
- 參考文獻(xiàn)67-73
- 致謝73-74
- 作者在攻讀碩士期間的主要研究成果74
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