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輝光放電質(zhì)譜分析用太陽(yáng)能級(jí)多晶硅標(biāo)準(zhǔn)樣品的研制

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輝光放電質(zhì)譜分析用太陽(yáng)能級(jí)多晶硅標(biāo)準(zhǔn)樣品的研制【摘要】:太陽(yáng)能級(jí)多晶硅作為太陽(yáng)能電池的基礎(chǔ)材料,主要含有施主雜質(zhì)P,As,Sb,Bi和受主雜質(zhì)B,Al,Ga,In,Tl還有C,O,

【摘要】:太陽(yáng)能級(jí)多晶硅作為太陽(yáng)能電池的基礎(chǔ)材料,主要含有施主雜質(zhì)P,As,Sb,Bi和受主雜質(zhì)B,Al,Ga,In,Tl還有C,O,K,Na,Fe,Cr,Ni,Cu,Zn等雜質(zhì)元素。輝光放電質(zhì)譜法具有分析元素多、測(cè)定速度快、測(cè)定范圍廣、檢出限低等優(yōu)點(diǎn),而成為對(duì)多晶硅固體樣品進(jìn)行直接測(cè)定的最有效的方法之一。因此本實(shí)驗(yàn)的主要目的是研制符合GDMS用的多晶硅標(biāo)準(zhǔn)樣品來(lái)實(shí)現(xiàn)定量測(cè)定。 調(diào)研了國(guó)內(nèi)外太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的發(fā)展?fàn)顩r,以及各種雜質(zhì)含量的范圍。根據(jù)國(guó)內(nèi)多晶硅的規(guī)格,以及GB/T/25074-2010對(duì)其雜質(zhì)成分要求,進(jìn)行成分設(shè)計(jì),并在全國(guó)范圍內(nèi)尋找合適的生產(chǎn)廠家,采用改良西門子法生產(chǎn)所需樣品。此法基于化學(xué)氣相反應(yīng)原理,兩種氣相反應(yīng)物三氯氫硅和氫氣以一定的壓力進(jìn)入還原爐內(nèi)相會(huì),在900℃-1100℃的高溫下發(fā)生一系列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng),生成粒徑細(xì)小的硅晶體,在載體上沉積形成硅棒,并采用二次重熔的方法,使其導(dǎo)電,最后進(jìn)行直拉單晶工藝,切割成所需規(guī)格的樣品。 建立了輝光放電質(zhì)譜法(GDMS)對(duì)太陽(yáng)能級(jí)多晶硅中B,P,Na,Al,K,Ca,Ti,Cr,Fe, Co,Ni,Cu,Zn的雜質(zhì)含量進(jìn)行測(cè)定的實(shí)驗(yàn)方法。對(duì)實(shí)驗(yàn)中的工作條件進(jìn)行了優(yōu)化,其工作參數(shù)為:放電電壓:1200V:放電電流:50mA;放電氣體流量:440mL。其測(cè)定的元素含量都小于1μg/g, B,P,Na,Al,K,Cu,Zn測(cè)定的RSD小于10%,Ni測(cè)定的RSD小于20%,Ca,Ti,Cr,Fe,Co的含量低于0.008μg/g,這五種元素測(cè)定的RSD在20%~35%之間。GD-MS對(duì)B,P,Na,Al,K,Ca,Fe,Ni,Cu,Co,Zn等元素的測(cè)定具有較好的精密度。 用建立的輝光放電質(zhì)譜法對(duì)樣品進(jìn)行均勻性初檢和復(fù)檢,用F檢驗(yàn)對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)處理,樣品中B,Al,P,Ca,Fe,Co,Cu,Zn的分布是均勻的。擬采用電感耦合等離子體質(zhì)譜法和二次離子質(zhì)譜法對(duì)樣品進(jìn)行定值。 還采用電感耦合等離子體質(zhì)譜法(ICP-MS)對(duì)太陽(yáng)能級(jí)多晶硅中的主要雜質(zhì)進(jìn)行了測(cè)定,在實(shí)驗(yàn)中采用揮除氟化硅的方法將基體硅分離,可以有效地抑制基體效應(yīng)。測(cè)定各雜質(zhì)元素的檢出限在0.14~2.85ng/mL之間,測(cè)定的RSD小于15%,回收率在85%-125%之間。此法可用于標(biāo)樣的定值工作。 本標(biāo)準(zhǔn)樣品的研制不僅可滿足GDMS定量測(cè)定的需要,也有利于光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和光伏發(fā)電的推廣應(yīng)用。 【關(guān)鍵詞】:太陽(yáng)能級(jí)多晶硅 輝光放電質(zhì)譜法 電感耦合等離子體質(zhì)譜 標(biāo)準(zhǔn)樣品
【學(xué)位授予單位】:北京有色金屬研究總院
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2013
【分類號(hào)】:TM914.4
【目錄】:
  • 摘要5-6
  • Abstract6-10
  • 1 文獻(xiàn)綜述10-29
  • 1.1 引言10-11
  • 1.2 太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的分析檢測(cè)方法11-22
  • 1.2.1 電感耦合等離子體質(zhì)譜法(ICP-MS)11-13
  • 1.2.2 二次離子質(zhì)譜法13-16
  • 1.2.3 激光電離質(zhì)譜法(LIMS)16-17
  • 1.2.4 輝光放電質(zhì)譜(GDMS)法17-22
  • 1.3 太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的標(biāo)準(zhǔn)22-28
  • 1.3.1 國(guó)外太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的規(guī)格23-26
  • 1.3.2 國(guó)內(nèi)太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的發(fā)展及標(biāo)準(zhǔn)制定26-28
  • 1.4 文獻(xiàn)小結(jié)28-29
  • 2 太陽(yáng)能級(jí)多晶硅標(biāo)準(zhǔn)樣品的研制29-69
  • 2.1 成分設(shè)計(jì)29
  • 2.2 選料29-31
  • 2.3 標(biāo)準(zhǔn)樣品的制備31-34
  • 2.4 輝光放電質(zhì)譜測(cè)定太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的方法研究及應(yīng)用于標(biāo)準(zhǔn)樣品的均勻性檢驗(yàn)34-63
  • 2.4.1 實(shí)驗(yàn)儀器及試劑34
  • 2.4.2 制樣過(guò)程34-35
  • 2.4.3 樣品的預(yù)處理35
  • 2.4.4 工作參數(shù)的選擇35-47
  • 2.4.5 各元素同位素、干擾情況及GDMS分辨率的選擇47-50
  • 2.4.6 樣品的測(cè)試過(guò)程50-51
  • 2.4.7 實(shí)驗(yàn)結(jié)果51-52
  • 2.4.8 GDMS法對(duì)太陽(yáng)能級(jí)多晶硅樣品均勻性初檢的實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)52-53
  • 2.4.9 均勻性檢驗(yàn)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果53-57
  • 2.4.10 均勻性復(fù)檢的實(shí)驗(yàn)結(jié)果57-63
  • 2.5 定值63
  • 2.6 電感耦合等離子體質(zhì)譜法對(duì)太陽(yáng)能級(jí)多晶硅中雜質(zhì)的測(cè)定63-69
  • 2.6.1 主要儀器和試劑63-64
  • 2.6.2 實(shí)驗(yàn)方法64-65
  • 2.6.3 工作參數(shù)的選擇65-66
  • 2.6.4 實(shí)驗(yàn)結(jié)果及討論66-68
  • 2.6.5 實(shí)驗(yàn)小結(jié)68-69
  • 結(jié)論69-70
  • 參考文獻(xiàn)70-78
  • 攻讀碩士學(xué)位期間取得的學(xué)術(shù)成果78-79
  • 致謝79


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