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甲烷部分氧化制合成氣中還原過程對(duì)Ni催化劑性能的影響

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時(shí)間:2024-08-18 21:33:08
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甲烷部分氧化制合成氣中還原過程對(duì)Ni催化劑性能的影響【摘要】:正甲烷部分氧化制合成氣過程中,催化劑的還原過程是重要的步驟。本文考察還原方式、還原溫度對(duì)催化劑性能的影響。 1.還原方

【摘要】:正甲烷部分氧化制合成氣過程中,催化劑的還原過程是重要的步驟。本文考察還原方式、還原溫度對(duì)催化劑性能的影響。 1.還原方式對(duì)催化劑性能的影響工業(yè)上,常用的催化劑還原方式有程序升溫還原(TPR)和高溫等溫還原(HTIR)兩種,本文 【作者單位】:中國石油吉林石化公司研究院 天津大學(xué)化工學(xué)院催化科學(xué)與工程系 天津大學(xué)化工學(xué)院催化科學(xué)與工程系
【關(guān)鍵詞】:甲烷 部分氧化 Ni催化劑 還原過程
【分類號(hào)】:TE665.3
【正文快照】: 甲烷部分氧化制合成氣過程中,催化劑的還原過程是重要的步驟。本文考察還原方式、還原溫 度對(duì)催化劑性能的影響。 1.還原方式對(duì)催化劑性能的影響 工業(yè)上,常用的催化劑還原方式有程序升溫還原(仆R)和高溫等溫還原(HTIR)兩種,本文 催化劑的制備過程同文獻(xiàn)111.分析還原譜圖發(fā)

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