甲烷濃度對CVD金剛石膜表面粗糙度的影響

【摘要】：研究了化學氣相沉積金剛石膜時甲烷濃度與金剛石膜表面粗糙度的關系。結果表明 ,隨甲烷濃度的增加金剛石膜表面粗糙度下降。表面粗糙度主要由金剛石膜的晶粒大小和二次形核決定 ,晶粒越細 ,表面粗糙度越低。在金剛石晶界二次形核及長大 ,也促使金剛石膜表面粗糙度降低。 【作者單位】： 韶關學院機電系 華南理工大學機械工程學院 華南理工大學機械工程學院
【關鍵詞】： 化學氣相沉積 金剛石膜 甲烷 粗糙度
【基金】：國家教委博士點基金項目 ( 19990 5 612 1) 廣東省自然科學基金項目 ( 990 5 48)
【分類號】：TB43
【正文快照】： 影響化學氣相沉積(CVD)金剛石膜的因素很多,其中表面粗糙度就是一個重要因素。F .Silva[1] 和I .U .Hassan[2 ] 等研究認為金剛石的形核密度和二次形核直接影響金剛石表面的粗糙度。本研究采用熱解絲設備研究了甲烷濃度對其表面粗糙度的影響。1　試驗方法采用自制的熱解CVD裝

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