首頁 > 學術(shù)論文

甲烷濃度對MPCVD金剛石膜色度的影響

來源:論文學術(shù)網(wǎng)
時間:2024-08-18 19:17:22
熱度:

甲烷濃度對MPCVD金剛石膜色度的影響【摘要】:運用自行設(shè)計的直接耦合石英管微波等離子體化學氣相沉積(microwave plasmachemical vapor depositi

【摘要】:運用自行設(shè)計的直接耦合石英管微波等離子體化學氣相沉積(microwave plasmachemical vapor deposition,MPCVD)裝置,以氫氣和甲烷為反應(yīng)氣體,沉積出八個金剛石膜樣品。研究了甲烷濃度對所沉積金剛石膜色度的影響。結(jié)果顯示隨著甲烷濃度的升高,飽和純度和色純度逐漸升高,甲烷濃度達到5.863%時,飽和純度和色度純度達到最大,分別為8.5%和9.5%,之后隨著CH_4濃度的升高飽和純度和色純度開始下降。 【作者單位】: 廣州大學物理與電子工程學院;
【關(guān)鍵詞】色度學 金剛石膜 飽和純度 色度純度
【基金】:廣州市屬高校科技計劃資助項目(62003)
【分類號】:O432.3
【正文快照】: 1引言化學氣相沉積(chemieal vapor deposition,CVI〕)金剛石膜具有許多優(yōu)異的力學、電學、熱學、聲學和光學等性質(zhì),可與天然的金剛石膜相媲美仁’,2〕,在高技術(shù)領(lǐng)域,具有十分廣闊的應(yīng)用前景仁3一5〕。因此,引起國內(nèi)外學者的廣泛興趣,成為目前國內(nèi)外的研究熱點之一,

您可以在本站搜索以下學術(shù)論文文獻來了解更多相關(guān)內(nèi)容

CVD金剛石膜中1145cm~(-1)拉曼峰的研究    閻研,張樹霖,郝少康,劉爾凱,韓毅松,玄真武,顧長志,劉維,丁明清

采用End-Hall源沉積類金剛石膜    洪偉;趙友博;張鐵群;

對標準色度學系統(tǒng)顏色空間的理解    凌華

CIE1931色度圖非線性均勻化    王秀澤;莊磊;

CIE 1976 LAB色差公式的均勻性研究    鄭元林,楊淑蕙,周世生,曹從軍

CIE最新色表模型的應(yīng)用探討    黃穎為,馮培勇

顏色光譜分析在計算機油墨配色中的應(yīng)用    趙晨飛;

基于自適應(yīng)混合顏色空間的圖像分割在藥片泡罩包裝檢測中的應(yīng)用    龍永紅;

類金剛石碳膜的摩擦學特性及其研究進展    李劉合,夏立芳,張海泉,張彥華,周志敏

采用DC Arc Plasma JetCVD方法沉積微/納米復(fù)合自支撐金剛石膜    戴風偉;陳廣超;蘭昊;J.Askari;宋建華;李成明;佟玉梅;李彬;黑立富;呂反修;

利用脈沖激光真空弧沉積技術(shù)制備類金剛石薄膜    蔣娜娜,邵天敏,陳大融

CVD金剛石涂層硬質(zhì)合金刀具的研究進展    朱紀磊,茍立,閻雙鋒,冉均國

DC Arc Plasma Jet CVD法沉積納米金剛石自支撐膜的研究    戴風偉;陳廣超;蘭昊;J.Askari;宋建華;李成明;佟玉梅;李彬;黑立富;唐偉忠;呂反修;

基于CIECAM02的實時色彩轉(zhuǎn)換模式    許向陽;劉真;蔡圣燕;

工藝參數(shù)對中頻非平衡磁控濺射制備TiN膜性能的影響    吳宇峰;馬勝歌;張德元;張以忱;耿漫;周;

富氧環(huán)境下碳煙還原NO_x的微觀反應(yīng)機理研究    李英杰

柑桔果實品質(zhì)和類黃酮的含量特征及橙汁摻假檢測的研究    付陳梅

脈沖激光燒蝕石墨靶制備超硬非晶碳膜    楊益民

計算機配色的理論與實踐研究    趙晨飛

液晶投影顯示顏色均勻性的研究    陳穎

基于主特征量自適應(yīng)選擇的彩色圖像分割方法研究    李麗

嵌入式CRT色度計關(guān)鍵技術(shù)的研究    葛學峰

數(shù)字打樣色彩管理系統(tǒng)的評估    羅紅蓮

離子束輔助中頻非平衡磁控濺射制備Ti-N-C膜的研究    吳宇峰

色域擴展技術(shù)的研究與實現(xiàn)    朱磊

色域擴展算法研究及硬件實現(xiàn)    姜浩

CVD金剛石薄膜襯底表面預(yù)處理技術(shù)進展    黃元盛,劉正義,邱萬奇

液晶顯示器防紫外光譜特性分析    黃翀,歐陽艷東,吳永俊,詹前賢

太陽光對液晶顯示器件光學特性的影響    黃翀;周學平;林旭升;歐陽艷東;

新型生物醫(yī)學材料——類金剛石膜的研究進展    賀亞敏,黃培林,呂曉迎

金剛石中的成鍵氫    彭明生,楊志軍,林冰

夏季戶外停放空調(diào)汽車的車內(nèi)溫變特性研究    龍恩深,王勇,付祥釗,趙力

口腔環(huán)境因素對樹脂牙摩擦學特性的影響    鄭靖,周仲榮,于海洋,張杰,黎紅

牙科用Ti-Zr合金的生物安全性評價    張玉梅,王勤濤,郭天文

化學氣相沉積法制備金剛石膜截面微區(qū)Raman分析    王冠中,葉峰,常超,章應(yīng)輝,方容川

CVD金剛石膜的結(jié)構(gòu)分析    劉存業(yè),劉暢

甲烷濃度對光學級金剛石膜生長的影響    畢冬梅;付志雄;

新型MPCVD裝置在高功率密度下高速沉積金剛石膜    于盛旺;李曉靜;張思凱;范朋偉;黑鴻君;唐偉忠;呂反修;

基于電感耦合氧等離子體金剛石膜表面修飾的功率優(yōu)化    張楷亮;王莎莎;王芳;吳小國;孫大智;

LED色度學參數(shù)測試實驗設(shè)計    馬靜靜;蔣泉;于軍勝;林慧;吳援明;

LED產(chǎn)品光度和色度檢測技術(shù)研究    俞建峰;錢建明;

高壓微波氫等離子體Balmer線系的實驗    翁國峰;湛玉龍;陶利平;付秋明;馬志斌;

微波氫等離子體的特性    鄭曉毅;徐偉;

    

    

    

乙醇對金剛石膜生長特性的影響    李春燕;金曾孫;呂憲義;

負偏壓增強金剛石膜與襯底結(jié)合強度的理論研究    劉鳳艷;劉宇星;劉敏薔;侯碧輝;

氮氣流量對金剛石膜生長的影響研究    李明吉;呂憲義;孫寶茹;金曾孫;

卷煙煙盒顏色檢測處理系統(tǒng)的開發(fā)    白鳳翔;石俊生;蔣紹全;楊衛(wèi)平;余鴻飛;

微波等離子體CVD法制備金剛石薄膜的研究    王向東;

CVD金剛石自支撐膜的高溫氧化    劉敬明;家建華;張恒大;蔣政;唐偉忠;呂反修;

CVD金剛石膜X-射線衍射分析    劉存業(yè);李建;陳志謙;王躍;

新型MPCVD裝置制備大面積CVD金剛石膜的研究    翁俊;汪建華;熊禮威;滿衛(wèi)東;

CVD金剛石膜制備技術(shù)及應(yīng)用進展    馬國欣;向鵬;邱勝寶;鄔紀澤;

銅基鑲嵌結(jié)構(gòu)界面金剛石涂層及其膜/基結(jié)合力的研究    邱萬奇;曾艷祥;賀禮賢;劉仲武;曾德長;鐘喜春;余紅雅;

瑞典科學家合成金剛石膜    陳丹

高氣壓直流輝光放電及其等離子體化學氣相沉積金剛石厚膜的生長特性與應(yīng)用研究    姜志剛

摻硼金剛石膜的制備及其電學性能研究    李春燕

硅基納米金剛石膜生長及其發(fā)光器件    梁興勃

大尺寸高質(zhì)量金剛石厚膜制備及氮摻雜對金剛石膜生長的影響研究    李明吉

納米金剛石薄膜的制備機理及其機械性能研究    徐鋒

輻射光譜辨識的原理研究與應(yīng)用    范學良

等離子體薄膜表面制造中的偏壓效應(yīng)研究    汪磊

基于人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的CRT色度變換方法    廖寧放

光學級金剛石厚膜應(yīng)用于紅外窗口的關(guān)鍵技術(shù)研究    陳榮發(fā)

DC-PCVD法硼摻雜金剛石膜的制備及其生長特性研究    胡雙

MPCVD金剛石膜的制備及其應(yīng)用的研究    杜康

氮氣對DC-PCVD法制備金剛石膜的影響及金剛石膜的生長特性研究    侯雪

沉積條件對CVD金剛石膜生長及其摻雜影響的研究    劉軍偉

直流熱陰極PCVD方法制備金剛石膜及其微結(jié)構(gòu)研究    齊海東

金剛石膜的應(yīng)力研究    李晨

大面積金剛石厚膜的制備    孫寶茹

壓強及氮氣對HFCVD硼摻雜金剛石膜的制備及性質(zhì)影響    李柳暗

基于快速掃描的光譜測量技術(shù)研究及其應(yīng)用    譚力

金剛石膜制備及其在機械加工領(lǐng)域的應(yīng)用    林志偉