鉬黑太陽(yáng)能選擇性吸收涂層的研制

【摘要】：利用NH_4Cl、(NH_4)_6Mo_7O_(24)·4H_2O的水溶液為原料液在經(jīng)過(guò)預(yù)處理后的鋁或鋁合金基片上進(jìn)行化學(xué)沉積,制備鉬黑太陽(yáng)光譜選擇性涂層。實(shí)驗(yàn)考察了反應(yīng)時(shí)間、反應(yīng)溫度、反應(yīng)溶液的pH值和表面預(yù)處理方式等對(duì)涂層太陽(yáng)吸收率α的影響,得到了制備鉬黑涂層的優(yōu)化條件,并對(duì)涂層表面進(jìn)行了XPS及SEM表征。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,涂層由Mo_xO_y組成,Mo的化學(xué)態(tài)介于+4～+6之間;鋁基片制得的涂層的吸收率明顯高于鋁合金基片;反應(yīng)溫度和反應(yīng)時(shí)間對(duì)于涂層的吸收率影響較為明顯;基片經(jīng)堿性預(yù)處理后涂層的太陽(yáng)吸收率優(yōu)于酸性預(yù)處理。 【作者單位】： 天津大學(xué)化工學(xué)院 天津大學(xué)化工學(xué)院 天津大學(xué)化工學(xué)院
【關(guān)鍵詞】： 鉬黑 太陽(yáng)光譜選擇性涂層 XPS SEM 制備
【基金】：天津市科技支撐項(xiàng)目(05YFGZSF02800)
【分類號(hào)】：TK519
【正文快照】： 0引言鑰黑太陽(yáng)能選擇性吸收涂層具有高吸收率、低發(fā)射率及良好的高溫穩(wěn)定性，研究人員采用多種制備工藝、在多種基材上對(duì)其進(jìn)行研究。文明芬等【’，z]利用電鍍方法在鋁片制備Ni/Mo二O，涂層;Gesheva等〔，一’〕利用常壓或等離子體化學(xué)氣相沉積(cvD)由撥基鑰和M喊C甄制備Mo二

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