Ni/Al_2O_3催化劑對高純HCl中微量CO_2甲烷化反應(yīng)的催化性能
Ni/Al_2O_3催化劑對高純HCl中微量CO_2甲烷化反應(yīng)的催化性能【摘要】:用浸漬法制備了以Al2O3為載體、Ni為活性組分的Ni/Al2O3二氧化碳甲烷化催化劑,在等溫固定
【關(guān)鍵詞】: 高純氯化氫 二氧化碳甲烷化 鎳/氧化鋁催化劑
【分類號】:X701;O643.32
【正文快照】: 引言高純氯化氫是集成電路生產(chǎn)中硅片蝕刻、鈍化和外延等工藝的重要材料,也可用于金屬冶煉、光導(dǎo)通訊和科學(xué)研究等領(lǐng)域[1]。隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展,對氯化氫純度的要求越來越高,要求用于單晶硅片氣相拋光和外延機(jī)座腐蝕的電子級氯化氫不僅應(yīng)具有99.999%以上的純度[2],而且
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