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應(yīng)用材料公司進(jìn)一步鞏固在金屬氧化物顯示屏制造技術(shù)上的領(lǐng)導(dǎo)地位

來源:新能源網(wǎng)
時間:2014-07-17 18:59:37
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應(yīng)用材料公司進(jìn)一步鞏固在金屬氧化物顯示屏制造技術(shù)上的領(lǐng)導(dǎo)地位新型PVD 和PECVD 設(shè)備支持獨特成膜技術(shù),利于大規(guī)模生產(chǎn)基于金屬氧化物薄膜晶體管的超高分辨率顯示屏大尺寸電視,移動

新型PVD 和PECVD 設(shè)備支持獨特成膜技術(shù),利于大規(guī)模生產(chǎn)基于金屬氧化物薄膜晶體管的超高分辨率顯示屏大尺寸電視,移動設(shè)備高分辨率、低功耗顯示屏的開發(fā)進(jìn)程得以加快加州圣克拉拉,2013 年 10 月 17 日 – 應(yīng)用材料公司今天發(fā)布制造大尺寸、超高分辨率 (UHD) 液晶電視屏和 OLED 顯示屏的新技術(shù)設(shè)備,新技術(shù)設(shè)備能夠滿足消費者對顯示屏性能、清晰度、色彩和亮度的更高要求。Applied AKT-PiVot® 55K DT PVD、Applied AKT-PiVot 25K DT PVD 和 Applied AKT 55KS PECVD 設(shè)備進(jìn)一步鞏固了應(yīng)用材料公司在金屬氧化物 (MO) 薄膜技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位,實現(xiàn)制造高分辨率顯示屏所需的更小、更快薄膜晶體管 (TFT)。通過精密材料工程和生產(chǎn)革新,這些 PVD 和 PECVD 設(shè)備為未來金屬氧化物薄膜顯示屏的批量生產(chǎn)提供了最優(yōu)化而具成本效益的解決方案?;诮饘傺趸锏谋∧ぞw管顯示技術(shù)能支持低功耗、高分辨率的智能手機、平板電腦以及OLED 電視。未來的超高清(4K)電視也有望采用金屬氧化物薄膜晶體管顯示技術(shù)。應(yīng)用材料公司 PVD 和 PECVD 設(shè)備及工藝所提供的膜質(zhì)均勻性和微??刂朴兄诳蛻魧崿F(xiàn)這一新型顯示屏技術(shù),為大規(guī)模生產(chǎn)所需的高良品率提供保障。“我們新型 PVD 和 PECVD 設(shè)備使客戶能夠利用已經(jīng)驗證的技術(shù)轉(zhuǎn)向金屬氧化物技術(shù),加快顯示行業(yè)的發(fā)展進(jìn)程,”應(yīng)用材料公司高級副總裁、全球服務(wù)事業(yè)部與成長市場部總經(jīng)理阿里?沙勒普爾 (Ali Salehpour) 說。“我們與客戶緊密合作開發(fā)這些解決方案來克服其在均勻性、微粒控制和穩(wěn)定性上遇到的關(guān)鍵難題,解決運用過程中的主要障礙,尤其是在OLED 產(chǎn)品方面。我們通過將這些解決方案擴展至不同的玻璃基板尺寸,以支持我們客戶的各種產(chǎn)品策略,成就大尺寸電視或移動設(shè)備高效能顯示屏生產(chǎn)的多種技術(shù)發(fā)展。”應(yīng)用材料公司的 AKT-PiVot® DT PVD設(shè)備(55K 用于 2200mm x 2500mm 玻璃基板,25K 用于 1500mm x 1850mm 玻璃基板)擴展了該公司專有的旋轉(zhuǎn)陰極陣列技術(shù),能為金屬氧化物以及金屬連線和像素電極提供高度均勻、同質(zhì)、低瑕疵的成膜。通過 PiVot 形成的、均勻的 IGZO 膜能夠制造出對顯示屏質(zhì)量至關(guān)重要的高度穩(wěn)定性的薄膜晶體管,是生產(chǎn)小尺寸和大尺寸 OLED 金屬氧化物背板的關(guān)鍵。隨著薄膜晶體管越來越小,玻璃基板尺寸越來越大,均勻性和微粒對良品率的影響也大幅增加。與傳統(tǒng)的平面靶相比,AKT-PiVot® PVD設(shè)備具有的旋轉(zhuǎn)靶自我清潔與等離子搖擺控制機能,實現(xiàn)了產(chǎn)品缺陷率的顯著降低與卓越的膜質(zhì)均勻性。為了有效實現(xiàn)高性價比,獨立的雙軌道設(shè)計以較小的占地面積實現(xiàn)了高產(chǎn)能。通過穩(wěn)固、無非均勻的 IGZO 薄膜,與均勻低缺陷率的金屬連線、像素電極以及新的集成式鈍化層 (AlOx)薄膜的結(jié)合,實現(xiàn)了前所未有的技術(shù)性能和靈活性。應(yīng)用材料公司的新型 AKT 55KS PECVD 設(shè)備為 2200mm x 2500mm 尺寸的玻璃基板帶來了領(lǐng)先于市場的精密 PECVD 技術(shù)。利用其新型優(yōu)質(zhì)的二氧化硅 (SiO2) 工藝,為金屬氧化物晶體管沉積電介質(zhì)界面,最大程度地減少氫氣雜質(zhì),提高晶體管的長期穩(wěn)定性并優(yōu)化顯示屏性能。通過持續(xù)實現(xiàn)高良品率所需的均勻性和微粒控制,AKT-55KS PECVD 設(shè)備為制造優(yōu)質(zhì)金屬氧化物薄膜晶體管顯示屏提供了快速而易于實施的技術(shù)方案。欲知應(yīng)用材料公司關(guān)于顯示屏生產(chǎn)解決方案的更多信息,請訪問: www.appliedmaterials.com/display.關(guān)于應(yīng)用材料公司應(yīng)用材料公司(納斯達(dá)克:AMAT)是一家全球領(lǐng)先的高科技企業(yè)。應(yīng)用材料公司的創(chuàng)新設(shè)備、服務(wù)和軟件被廣泛應(yīng)用于先進(jìn)半導(dǎo)體芯片、平板顯示器和太陽能光伏產(chǎn)品制造產(chǎn)業(yè)。我們的技術(shù)使智能手機、平板電視和太陽能面板等創(chuàng)新產(chǎn)品以更普及、更具價格優(yōu)勢的方式惠及全球商界和普通消費者。欲了解更多信息,請訪問:www.appliedmaterials.com.