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阿特斯王栩生:單多晶市場份額最終由市場決定

來源:新能源網
時間:2017-11-23 14:38:06
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阿特斯王栩生:單多晶市場份額最終由市場決定[導語]:隨著第二批設計了單晶組件的領跑者項目無法并網而減少了需求,第三批領跑者計劃項目技術指標不再特別照顧單晶。2017年三季度末以來已

[導語]:隨著第二批設計了單晶組件的領跑者項目無法并網而減少了需求,第三批領跑者計劃項目技術指標不再特別照顧單晶。2017年三季度末以來已經看到單晶硅片、電池、組件全產業(yè)鏈出現需求急劇下滑,價格下調仍未見市場回暖。而多晶系列全線開足產能,以合理價格和高性價比滿足了旺盛的市場需求。

“一上午的時間不夠,都快過飯點兒了”,上周末,在徐州舉辦的第十三屆中國太陽級硅及光伏發(fā)電研討會“黑硅技術與應用”論壇上,主持人保利協鑫切片事業(yè)部副總裁金善明不禁感慨。在短短的半天時間內,20余位業(yè)內頂尖專家、企業(yè)技術負責人就金剛線和黑硅技術分別作主旨報告,多晶性價比的大幅提升成為嘉賓討論最多的話題。

單多晶回到相同起跑“線”

好似黑硅的孿生兄弟,多晶金剛線推廣速度成為黑硅論壇上的熱門議題。

“金剛線切割相對于砂線切割,具有切割速度快、損耗低、環(huán)保等優(yōu)點,”作為國內金剛線生產領軍企業(yè),岱勒新材鐘建明總監(jiān)表示,“單晶金剛線切片已經廣泛應用,而今年體量更大的多晶金剛線推廣速度遠超預期。以往單晶全部使用金剛線切割也沒有多大的需求量,現在多晶也轉金剛線切割后,對金剛線的需求是巨量放大,預計2018年全行業(yè)多晶用金剛線切割占90%以上,主要是上半年才改完”。

金剛線一直被認為是單晶的“殺手锏”,2016年,單晶率先推廣金剛線切割,市場份額增長。而隨著保利協鑫等多晶廠商逐步克服金剛線切割機臺改造難題,金剛線切割將迎來多晶時代。

“已經改了80%,年底全改完。MB271機型全部改完了,A片切割良率穩(wěn)定在92%以上超過專用機,B5機臺改造難題也已經突破量產在即,改造成本為買專機的十分之一”,金善明自信的說。隨著金剛線在多晶硅片領域的規(guī)模推廣,切片端單晶成本優(yōu)勢不再。

單晶和多晶的差異僅在長晶端。阿特斯技術總監(jiān)王栩生的報告顯示,單晶拉棒的單位硅錠耗電約為75KWh/Kg,單爐月產能約3噸,而多晶鑄錠的單位耗電約為12KWh/Kg,單爐月產能約9噸。長晶環(huán)節(jié)差異是單晶、多晶產品成本差異的主要因素,而且拉棒工藝特征決定很難再降低電耗。

“未來降本還是靠金剛線”,金善明認為,“對保利協鑫來說,金剛線技術降本作用仍未完全釋放。全部產線改完、切片速度提高、單刀線耗降低、產品良率提高后,硅片成本會再大幅降低。當前金剛線供不應求,價格偏高,優(yōu)質產品比例低、供貨廠家分散。希望未來可以帶動上游相關優(yōu)質企業(yè)共同發(fā)展,推動金剛線細線化,降低金剛線價格并提升質量。”

資料顯示,金剛線成本占據硅片總成本的17%,是除了多晶硅料外的第二大成本貢獻點。未來硅片成本的下降取決于于線徑和硅片厚度的降低。

“隨著多晶鑄錠晶體硬質點的減少,金剛線強度的增加,單多晶切割將共同邁向細線化”,鐘建明在會上公布了岱勒新材金剛線細線化路線圖:2017年單晶主流線徑65μm,多晶70μm;2018年單晶60μm,多晶65μm,到2020年,單多晶均可以用50μm的金剛線。

成熟黑硅技術再次提升多晶性價比

據統計,2017年底國內濕法黑硅設備已經超過100臺,產能超過10吉瓦。前幾年高效多晶技術的主攻方向是圍繞晶體結構進行體材料提效,近一年則是以黑硅技術為代表的硅片表面提效。

“切片環(huán)節(jié)主要解決的是降本問題,而配套的黑硅技術則在降本、提效方面都有提升空間。”金善明表示,保利協鑫第二代黑硅片加工成本可降低40%。預計到明年一季度大規(guī)模量產后,可以將黑硅加工成本控制在0.1元/片,功率增益提升至5瓦。按照當前的組件價格計算,黑硅組件有0.05元/瓦的增益,而成本只上升了0.02元/瓦左右。

黑硅制絨之前,普及金剛線切割的多晶硅片已經降本0.5-0.8元/片,而且,黑硅制絨后的多晶硅片可以直接上電池線,替代了傳統酸制絨環(huán)節(jié)。

王栩生同時認為,黑硅技術能夠與高效PERC技術高度匹配,經驗證,黑硅+PERC可以提效1.2%-1.5%,實現“1+1>2”的效果。“而且,阿特斯?jié)穹ê诠杞M件有更好的弱光特性,更低的組件表面溫度,更高的歸一化發(fā)電量”,王栩生說。

“顏值問題將也不再是多晶組件的困擾,”上海交通大學莊宇峰博士在報告中表示,濕法黑硅技術已經完全成熟,而且可在不同晶面上實現同樣的微、納米絨面,消除晶界,解決電池片的色差問題,基本實現外觀單晶化,而且結合PERC工藝,電池性能進一步提升。

針對黑硅技術提效是否有瓶頸問題,蘇州大學教授蘇曉東認為,常規(guī)絨面反射率24%,濕法黑硅絨面反射率16-18%,以20%內光電效率計算,未來提升1.2-1.6%可能性很大。

“多晶性價比優(yōu)勢將再擴大,單多晶市場份額最終也將會由市場來決定,而不再是政策”,王栩生說。隨著第二批設計了單晶組件的領跑者項目無法并網而減少了需求,第三批領跑者計劃項目技術指標不再特別照顧單晶。2017年三季度末以來已經看到單晶硅片、電池、組件全產業(yè)鏈出現需求急劇下滑,價格下調仍未見市場回暖。而多晶系列全線開足產能,以合理價格和高性價比滿足了旺盛的市場需求。